[發明專利]磁盤裝置及頭滑動器無效
| 申請號： | 200810085096.0 | 申請日： | 2008-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN101266801A | 公開（公告）日： | 2008-09-17 |
| 發明（設計）人： | 市原順一 | 申請（專利權）人： | 富士通株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/60 | 分類號： | G11B5/60;G11B21/21 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 趙淑萍 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁盤 裝置 滑動 | ||
1.一種磁盤裝置，包括：
磁盤，其包括數據區及伺服區，并在表面上具有槽；
主軸電動機，其用于使所述磁盤旋轉；
致動器，其用于在所述磁盤的徑向方向上對臂進行驅動；以及
頭滑動器，其包括磁頭，設置在所述臂的末端，
其中，所述頭滑動器包括：
磁頭，其設置在流出端一側；以及
承載表面，其具有多個墊，所述多個墊包括設置在所述流出端部上的墊，其中所述墊的形狀形成為具有朝向流出端縮窄的寬度的楔形。
2.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形的長度比所述磁盤的所述伺服區的最大寬度更長。
3.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形的頂角不大于90度。
4.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊至少由兩層形成，并且所述兩層中的表面層形成為楔形。
5.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊包括：
形成為楔形的表面層；以及
設置在所述表面層下方以形成所述磁頭的頭形成層。
6.根據權利要求5所述的磁盤裝置，
其中，所述頭形成層具有用于在所述流出端上形成所述磁頭的寬度，并且所述流出端之外的其他部分形成為所述表面層的形狀。
7.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形具有頂點。
8.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形在所述流出端處具有筆直部分。
9.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，所述磁盤包括：
所述數據區，其具有沿所述磁盤的周向方向的被槽分隔的多個軌道；以及
所述伺服區，其被其他槽分隔，并設置在所述磁盤的徑向方向上。
10.根據權利要求1所述的磁盤裝置，
其中，所述頭滑動器包括：
前墊，其設置在所述流入端上；以及
后墊，其設置在所述流出端上。
11.一種頭滑動器，其在具有數據區和伺服區并在表面上具有槽的磁盤上懸浮，所述頭滑動器包括：
磁頭，其設置在流出端一側；以及
承載表面，其具有多個墊，
其中，在所述多個墊中，設置在所述流出端部分上的墊的形狀被形成為具有朝向所述流出端縮窄的寬度的楔形。
12.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形的長度比所述磁盤的所述伺服區的最大寬度更長。
13.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊的所述楔形的頂角不大于90度。
14.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊至少由兩層形成，并且所述兩層中的表面層形成為楔形。
15.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊包括：
形成為楔形的表面層；以及
設置在所述表面層下方以形成所述磁頭的頭形成層。
16.根據權利要求15所述的頭滑動器，
其中，所述頭形成層具有用于在所述流出端上形成所述磁頭的寬度，并且所述流出端之外的其他部分形成為所述表面層的形狀。
17.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊楔形具有頂點。
18.根據權利要求11所述的頭滑動器，
其中，設置在所述流出端部上的所述墊楔形在所述流出端處具有筆直部分。
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