[發明專利]試樣分析儀

有效

• 申請號: 200810084888.6
• 申請日: 2008-03-28
• 公開（公告）號: CN101275960A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 若宮裕二;奧崎智裕;竹原久人
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N33/50
• 代理公司: 北京金之橋知識產權代理有限公司
• 代理人: 梁朝玉;劉良勇

1.一種試樣分析儀，包括：

測定裝置，測定含試樣和試劑的測定試樣；

校正曲線繪制單元，根據所述測定裝置測定含標準試樣和所述試劑的測定用標準試樣所得第一測定數據繪制校正曲線；

校正曲線特定信息附加單元，賦予所述校正曲線繪制單元繪制的所述校正曲線以用于確定所述校正曲線的校正曲線特定信息；

測定數據處理單元，根據所述校正曲線繪制單元繪制的所述校正曲線，對所述測定裝置測定所述測定試樣所獲得的第二測定數據進行處理，以取得分析結果；以及

分析結果存儲單元，將所述測定數據處理單元獲取的所述分析結果與賦予所述第二測定數據處理用所述校正曲線的所述校正曲線特定信息對應存儲。

2.如權利要求1所述的試樣分析儀，其特征在于還具有顯示校正曲線信息顯示畫面的顯示器，該校正曲線信息顯示畫面包含顯示所述校正曲線圖形的圖形顯示區和顯示賦予所述校正曲線的所述校正曲線特定信息的特定信息顯示區。

3.如權利要求1～2中任一所述的試樣分析儀，其特征在于：還具有接受對所述校正曲線繪制單元繪制的所述校正曲線的驗證的接受單元以及在所述接受單元接受對所述校正曲線的驗證后對應于該校正曲線設定驗證狀態的驗證設定單元；

所述校正曲線特定信息附加單元通過所述接受單元接受了對所述校正曲線的驗證后，為所述校正曲線設定所述校正曲線特定信息。

4.如權利要求1所述的試樣分析儀，其特征在于還包括：

儲存可用于分析的所述校正曲線的第一存儲單元；

儲存過去使用的數個第二校正曲線的第二存儲單元；

從所述第二存儲單元儲存的數個所述第二校正曲線中接受對特定校正曲線指定的指定接受單元；

將所述第二存儲單元儲存的數個所述第二校正曲線中指定的校正曲線作為可用于分析的校正曲線存入所述第一存儲單元的校正曲線再生單元。

5.如權利要求4所述的試樣分析儀，其特征在于：所述第二存儲單元可以與所述第二校正曲線特定信息對應地存儲第二校正曲線，

它還具有至少能以所述校正曲線特定信息為關鍵詞檢索儲存在第二存儲單元的所述特定校正曲線的檢索單元。

6.如權利要求4～5中任一所述的試樣分析儀，其特征在于：所述第二存儲單元可以對應地存儲所述第二校正曲線、所述校正曲線特定信息以及測定所述標準試樣使用的所述試劑的批號信息。

7.如權利要求1所述的試樣分析儀，還包括：

第一存儲單元，存儲可用于分析的所述校正曲線；

第二存儲單元，存儲繪制過去用過的數個第二校正曲線時使用的數個所述標準試樣的所述第一測定數據；

指定接受單元，接受從所述第二存儲單元存儲的數個所述第一測定數據中對特定測定數據的指定；

校正曲線再生單元，根據所述第二存儲單元存儲的數個所述第一測定數據中指定的所述特定測定數據繪制第三校正曲線、作為可用于分析的所述校正曲線存入所述第一存儲單元。

8.如權利要求7所述的試樣分析儀，其特征在于，所述第二存儲單元可以與所述校正曲線特定信息對應地存儲所述標準試樣的第一測定數據，還具有至少以所述校正曲線特定信息為關鍵詞檢索存在第二存儲單元中的所述特定第一測定數據的檢索單元。

9.如權利要求7～8中任一所述的試樣分析儀，其特征在于，對應地存儲所述標準試樣的第一測定數據、所述校正曲線特定信息及所述標準試樣測定時使用的該試劑的批號信息。

10.如權利要求1所述的試樣分析儀，其特征在于還包括：對應顯示分析結果存儲單元存儲的所述分析結果和所述校正曲線特定信息的分析結果顯示單元。

11.如權利要求10所述的試樣分析儀，其特征在于：所述分析結果顯示單元將測定所述標準試樣所用所述試劑的批號信息與所述分析結果和所述校正曲線特定信息對應顯示。

12.如權利要求1所述的試樣分析儀，其特征在于：所述測定數據處理單元根據所述校正曲線將所述第二測定數據轉換為所述試樣所含某種成份的濃度，獲取所述分析結果。