[發明專利]研磨液組合物

有效

• 申請號: 200810082982.8
• 申請日: 2003-12-26
• 公開（公告）號: CN101240159A
• 公開（公告）日: 2008-08-13
• 發明（設計）人: 大島良曉;西本和彥;萩原敏也
• 申請（專利權）人: 花王株式會社
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14;B24B37/04;B24B29/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 陳建全

1、一種研磨液組合物，其是含有水和二氧化硅粒子而成的用于存儲硬盤用基板的研磨液組合物，其中，通過透射式電子顯微鏡(TEM)觀察測定而得到所述二氧化硅粒子的粒徑(nm)，在將從小粒徑的一側的累積體積頻率(％)相對于所述二氧化硅粒子的粒徑繪圖而得到的累積體積頻率對所述二氧化硅粒子的粒徑的曲線圖中，所述二氧化硅粒子的粒徑5-40nm范圍的累積體積頻率(V)相對于粒徑(R)滿足下式(1)：

V≤2×(R-5)?????(1)

和粒徑20-40nm范圍的累積體積頻率(V)相對于粒徑(R)滿足下式(2)：

V≥0.5×(R-20)??(2)

且累積體積頻率為90％的粒徑(D90)在65nm以上且不足105nm的范圍。

2、權利要求1記載的研磨液組合物，其中二氧化硅粒子為膠態二氧化硅粒子。

3、權利要求1記載的研磨液組合物，進一步含有選自酸、其鹽以及氧化劑的至少一種。

4、權利要求2記載的研磨液組合物，進一步含有選自酸、其鹽以及氧化劑的至少一種。

5、權利要求1記載的研磨液組合物，進一步含有氧化劑和有機膦酸。

6、權利要求1記載的研磨液組合物，其pH為1～4.5。

7、一種抑制了托架響聲的產生的存儲硬盤用基板的研磨方法，該方法包括用權利要求1記載的研磨液組合物進行存儲硬盤用基板的研磨的工序。

8、一種存儲硬盤用基板的制造方法，包括使用權利要求1記載的研磨液組合物進行鍍Ni-P的存儲硬盤用基板的研磨的工序。

9、一種使用權利要求1記載的研磨液組合物研磨被研磨基板而成的鍍Ni-P的存儲硬盤用基板。