[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體裝置無效
申請?zhí)枺?/td> | 200810080665.2 | 申請日: | 2008-02-28 |
公開(公告)號: | CN101257021A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 伊藤弘造;川本和弘 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社理光 |
主分類號: | H01L27/06 | 分類號: | H01L27/06;G05F1/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 王冉;楊梧 |
地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體裝置,尤其涉及內(nèi)藏所謂串聯(lián)穩(wěn)壓器(series?regulator)或開關(guān)穩(wěn)壓器(switching?regulator)的定電壓電路、使用金屬-絕緣體-金屬(metal-insulator-matal,以下簡記為“MIM”)型電容器作為補償用電容器的半導(dǎo)體裝置的配置。
背景技術(shù)
以往,在開關(guān)穩(wěn)壓器或串聯(lián)穩(wěn)壓器中,為了穩(wěn)定動作,在電路內(nèi)使用補償用電容器。具有電阻和補償用電容器串聯(lián)連接的RC電路場合,為了抑制芯片面積增加,有以下技術(shù):在構(gòu)成電容部的MIM電容器的上基體金屬膜或下基體金屬膜的至少一方,使用具有所定片材電阻值的薄膜電阻用金屬材料形成電阻部(例如參照專利文獻1)。
[專利文獻1]日本特開平1-223757號公報
但是,在這種結(jié)構(gòu)中,存在只能形成電阻和電容器的串聯(lián)電路的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是為解決上述先有技術(shù)所存在的問題而提出來的,本發(fā)明的目的在于,提供能不限制電阻和電容器連接、芯片面積小的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體裝置。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出以下方案:
(1)一種半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu),包括:
半導(dǎo)體基板;
電阻層,形成在所述半導(dǎo)體基板上,所述電阻層具有配置在其中的電阻;
電容層,形成在所述電阻層上,所述電容層具有電容器,與電阻電氣連接。
(2)在上述(1)所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)中,其特征在于:
所述電阻包括多個可互相連接的單位電阻,形成多單位電阻;
所述電容層包括:
第一金屬層,與所述電阻層鄰接,該第一金屬層形成上述電容器的一電極,同時,對所述多個單位電阻提供電連接;
電介質(zhì)層,形成在所述第一金屬層上;以及
第二金屬層,形成在所述電介質(zhì)層上,該第二金屬層形成上述電容器的另一電極,通過所述電介質(zhì)層與第一金屬層絕緣。
(3)在上述(1)所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)中,其特征在于:
進一步包括插入所述電阻層和電容層之間的中間金屬層;
所述電阻包括多個可互相連接的單位電阻,形成多單位電阻;
所述中間金屬層對所述多個單位電阻提供電連接;以及
所述電容層包括:
第一金屬層,與所述中間金屬層鄰接,該第一金屬層形成上述電容器的一電極;
電介質(zhì)層,形成在所述第一金屬層上;以及
第二金屬層,形成在所述電介質(zhì)層上,該第二金屬層形成上述電容器的另一電極,通過所述電介質(zhì)層與第一金屬層絕緣。
(4)在上述(3)所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)中,其特征在于:
進一步包括至少一個金屬配線層,配置在所述中間金屬層和第一金屬層之間。
(5)在上述(1)所述的半導(dǎo)體裝置結(jié)構(gòu)中,其特征在于:
所述電容器是金屬-絕緣體-金屬型電容器。
(6)一種半導(dǎo)體裝置,從輸入電壓產(chǎn)生一定的輸出電壓,該半導(dǎo)體裝置包括:
半導(dǎo)體基板;
電阻層,形成在所述半導(dǎo)體基板上,所述電阻層具有配置在其中的電阻;
電容層,形成在所述電阻層上,所述電容層具有電容器,與電阻電氣連接。
(7)在上述(6)所述的半導(dǎo)體裝置中,其特征在于:
所述電阻包括多個可互相連接的單位電阻,形成多單位電阻;
所述電容層包括:
第一金屬層,與所述電阻層鄰接,該第一金屬層形成上述電容器的一電極,同時,對所述多個單位電阻提供電連接;
電介質(zhì)層,形成在所述第一金屬層上;以及
第二金屬層,形成在所述電介質(zhì)層上,該第二金屬層形成上述電容器的另一電極,通過所述電介質(zhì)層與第一金屬層絕緣。
(8)在上述(7)所述的半導(dǎo)體裝置中,其特征在于:
進一步包括:
電壓分壓器,通過對輸出電壓進行分壓,產(chǎn)生反饋信號;
控制電路,根據(jù)該反饋信號,輸出控制信號;
輸出晶體管,根據(jù)所述控制信號,控制電流通過,使得所述反饋信號成為所定的基準(zhǔn)信號;
所述多單位電阻通過所述第一金屬層被結(jié)合,形成與所述電容器連接的所述電壓分壓器。
(9)在上述(7)所述的半導(dǎo)體裝置中,其特征在于:
進一步包括:
電壓分壓器,通過對輸出電壓進行分壓,產(chǎn)生反饋信號;
控制電路,根據(jù)該反饋信號,輸出控制信號;
電感器,將輸入電壓變換成輸出電壓;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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