[發(fā)明專(zhuān)利]立式熱處理裝置以及立式熱處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810074119.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-02-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101246815A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 似鳥(niǎo)弘彌;菱谷克幸 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/00;H01L21/677;F27B17/00;F27D1/18;F27D3/00;F27D5/00 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 劉春成 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 立式 熱處理 裝置 以及 方法 | ||
1.一種立式熱處理裝置,其特征在于,包括:
下部形成有爐口的熱處理爐;
多層保持多個(gè)基板并且被搬入到熱處理爐內(nèi)對(duì)基板進(jìn)行熱處理的一對(duì)基板保持件;
封閉熱處理爐的爐口的蓋體;
設(shè)置在蓋體上的保溫筒;
使蓋體升降的升降機(jī)構(gòu);
鄰接設(shè)置在熱處理爐的下方的保持件載置臺(tái);以及
在保溫筒上以及保持件載置臺(tái)上之間對(duì)一對(duì)基板保持件的各個(gè)進(jìn)行搬送的保持件搬送機(jī)構(gòu),其中,
在所述保持件搬送機(jī)構(gòu)上設(shè)置有限制各基板保持件發(fā)生倒轉(zhuǎn)的倒轉(zhuǎn)限制部件。
2.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著間隙與支撐在所述支撐部上的底板的上面相對(duì)的限制片。
3.如權(quán)利要求2所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述倒轉(zhuǎn)限制部件還具有使該限制片從側(cè)面突出退回的驅(qū)動(dòng)部。
4.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有從所述支撐部的后方立起設(shè)置的并且用于按壓基板保持件的頂板的頂板按壓部。
5.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,在所述基板保持件的底板的上面形成有限制槽,所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著少許間隔與所述限制槽相對(duì)的限制桿。
6.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對(duì)橫孔,所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述橫孔的限制桿。
7.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對(duì)側(cè)槽,所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述側(cè)槽的限制桿。
8.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,在所述基板保持件的底板形成有縱孔,所述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與所述縱孔嵌合的限制突起部構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置,其特征在于:
所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱,所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有支撐所述基板保持件的底板的下面的支撐部,所述基板保持件的底板形成為環(huán)狀,所述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與所述環(huán)狀底板的內(nèi)周壁相對(duì)的多個(gè)限制突起部構(gòu)成。
10.一種立式熱處理方法,其特征在于,包括:
隔著保溫筒將多層保持有多個(gè)基板的一方的基板保持件載置于用于封閉熱處理爐的爐口的蓋體上,使蓋體上升將基板保持件搬入到熱處理爐內(nèi)的工序;
在熱處理爐內(nèi)對(duì)基板進(jìn)行熱處理的工序;
在基板的熱處理中,將基板移載至保持件載置臺(tái)上的另一方基板保持件上的工序;以及
利用保持件搬送機(jī)構(gòu)對(duì)熱處理后從熱處理爐搬出的保溫筒上的一方的基板保持件與保持件載置臺(tái)上的另一方的基板保持件進(jìn)行移交的工序,其中,
所述保持件搬送機(jī)構(gòu)具有倒轉(zhuǎn)限制部件,在利用該倒轉(zhuǎn)限制部件對(duì)一方的基板保持件以及另一方的基板保持件的倒轉(zhuǎn)進(jìn)行限制的狀態(tài)下搬送各基板保持件。
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H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
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