[發(fā)明專利]太陽能電池銅銦鎵硒薄膜關(guān)鍵靶材及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810073549.8 | 申請日: | 2008-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN101260513A | 公開(公告)日: | 2008-09-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王東生;黃開盛;龍飛;李建軍;鄒正光 | 申請(專利權(quán))人: | 王東生 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司: | 廣西南寧明智專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 黎明天 |
| 地址: | 530003廣西壯族自治區(qū)南寧市*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 銅銦鎵硒 薄膜 關(guān)鍵 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及一種薄膜太陽能電池光電轉(zhuǎn)換材料銅銦鎵硒(CIGS)薄膜關(guān)鍵靶材及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來,直接帶隙材料薄膜太陽電池的開發(fā)成為新的研究熱點。CuIn(1-x)GaxSe2(CIGS)薄膜電池因具有成本低(僅為晶體硅太陽電池的1/10)、轉(zhuǎn)換效率高(目前已達到19.3%)、穩(wěn)定性好等特點而與成為最有希望的薄膜光伏器件之一。
目前通常采用的CIGS薄膜制備工藝有共蒸發(fā)工藝-硒化工藝、分步磁控濺射-硒化工藝等,并獲得了較好的轉(zhuǎn)換效率。如:何青,孫云,李鳳巖等,效率為12.1%的Cu(In,Ga)Se2薄膜太陽電池[J],太陽能學報,2004(25):782-784,提出利用共蒸發(fā)的三步法制備了較高質(zhì)量的四元化合物Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜,并采用Mo/CIGS/CdS/ZnO結(jié)構(gòu)為基礎做出轉(zhuǎn)換效率超過10%的薄膜太陽電池,其最高轉(zhuǎn)換效率達到12.1%(測試條件為:AM1.5,Global?1000W/m2)。又如:方玲,張弓,莊大明等,Cu-In膜的相結(jié)構(gòu)對CuInSe2薄膜性能的影響,清華大學學報(自然科學版)2004,44(8):1096-1099,采用中頻交流分步磁控濺射方法沉積Cu-In薄膜,并采用固態(tài)硒化方法形成CIS薄膜。
然而,這些制備工藝由于工藝過程步驟較多且復雜,不利于薄膜的工藝控制。如目前采用的磁控濺射工藝是通過分層濺射Cu-Ga合金膜和In金屬膜,最后通過固態(tài)硒蒸氣硒化合金膜獲得CIGS薄膜。這種過程由于多種組分由不同的靶材提供,造成濺射工藝較為復雜。同時由于硒組分完全由后期硒化工藝提供,容易造成后期硒化過程中的薄膜質(zhì)量問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足與缺陷,提供一種磁控濺射一步沉積Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜的關(guān)鍵靶材制備工藝。
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
以銅、銦、鎵、硒元素粉末為原料,采用固相合成制備CIGS粉,進而采用等靜壓成型,最后高溫燒結(jié)制備CIGS靶材。靶材以CuIn(1-x)GaxSe2為主相,其中Cu∶In∶Ga∶Se比例在1∶(0.6~1.2)∶(0.2~0.8)∶(1.8~2.5)之間。采用上述靶材通過現(xiàn)有常規(guī)磁控濺射工藝可以一步濺射成膜獲得CIGS薄膜。
具體制備工藝如下:
以Cu、In、Ga、Se粉為原料,并按摩爾比Cu∶In∶Ga∶Se=1∶(0.6~1.2)∶(0.2~0.8)∶(1.8~2.5)的比例混合,將原料用無水乙醇充分潤濕,一般以無水乙醇浸沒Cu、In、Ga、Se粉為佳,采取濕法研磨介質(zhì),在氬氣氣氛保護下以100~250r/min的轉(zhuǎn)速球磨12~24h,球磨后的原料經(jīng)干燥后進行固相合成,獲得CIGS粉體,再經(jīng)球磨、預成型、等靜壓成型后置入氬氣氣氛保護中進行高溫燒結(jié),獲得CIGS靶材。
以上所述的固相合成是將球磨后的Cu、In、Ga、Se粉混合原料在氬氣氣氛保護下升溫至350~550℃,保溫1~4h,冷卻后獲得CIGS粉體。
以上所述的等靜壓成型是在150~300Mpa條件下進行。
以上所述的高溫燒結(jié)的過程是在500~850℃保溫2~4h。
本分發(fā)明的有益效果是:
1、成功的制備出CIGS關(guān)鍵靶材,將四元組分由“分步沉積-硒化”的工藝流程簡化為“一步沉積”。與現(xiàn)有磁控濺射工藝相比,本發(fā)明通過磁控濺射一步沉積的方法,解決了多次換靶重復沉積的復雜工藝過程,同時解決了后期硒化造成的質(zhì)量問題。采用CIGS靶材一步沉積CIGS薄膜,組分的調(diào)整通過靶材進行,后期的濺射工藝只需保證成膜的質(zhì)量,增加了工藝的可控性。
2、適合工業(yè)化生產(chǎn),成本低,產(chǎn)品穩(wěn)定性好。
附圖說明
圖1為本發(fā)明制備工藝流程圖。
圖2為本發(fā)明制備的CIGS靶材XRD物相分析。所制備的CIGS靶材晶相為黃銅礦結(jié)構(gòu)的CIGS,物相純凈,未見其它二元相。
圖3為本發(fā)明制備的CIGS靶材SEM形貌分析。所制備的CIGS靶材微觀結(jié)構(gòu)致密,已在高溫中形成致密燒結(jié)體。圖中左邊是2000倍下的照片,右邊是8000倍下的照片。
圖4為本發(fā)明通過一步磁控濺射獲得的CIGS薄膜。可以看出銅銦鎵硒(CIGS)薄膜的結(jié)構(gòu)致密、均勻。
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