[發(fā)明專利]觸摸屏電極制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810066633.7
• 申請(qǐng)日: 2008-04-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101261560A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張樹(shù)峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 張樹(shù)峰
• 主分類號(hào): G06F3/044
• 分類號(hào): G06F3/044;G06F3/045
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種觸膜屏電極制造方法，步驟如下：

A.在透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積一層金屬膜；

B.在金屬膜上形成有電極圖形的抗蝕層；

C.用堿性金屬蝕刻液蝕刻金屬膜，形成電極圖形；

D.把電阻層的非功能區(qū)與電極和功能區(qū)蝕刻隔離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是純銅。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是黃銅。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是青銅。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是鋁。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是鋁合金。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是銀。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于透明導(dǎo)電片或板的電阻層上物理氣相沉積的金屬膜是鋅。

9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5、6、7、8所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于把電阻層的非功能區(qū)與電極和功能區(qū)蝕刻隔離的方法是用小于1065nm的短波長(zhǎng)激光蝕刻出隔離線。

10.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5、6、7、8所述的觸膜屏電極制造方法，其特征在于把電阻層的非功能區(qū)與電極和功能區(qū)蝕刻隔離的方法是：

A.在去除電極圖形抗蝕膜的電阻層上形成非功能區(qū)圖形抗蝕層；

B.用酸性蝕刻液去除非功能區(qū)。