[發(fā)明專利]一種K金首飾無氰電解拋光液及其電解拋光方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810065423.6 | 申請日： | 2008-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN101519790A | 公開（公告）日： | 2009-09-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 謝良和 | 申請（專利權）人： | 謝良和 |
| 主分類號： | C25F3/22 | 分類號： | C25F3/22 |
| 代理公司： | 深圳市千納專利代理有限公司 | 代理人： | 胡清方 |
| 地址： | 518000廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 首飾 電解 拋光 及其 方法 | ||
1、一種K金無氰電解拋光液，其特征在于，它是包括下列原料配比的水溶液：硫脲50-150g/L，硫酸3-15ml/L或磷酸20-50ml/L或酒石酸20-50g/L。
2、根據(jù)權利要求1所述的K金無氰電解拋光液，其特征在于：所述K金無氰電解拋光液的最佳配比為：硫脲90-110g/L，硫酸8-10ml/L或磷酸35-40ml/L或酒石酸35-40g/L。
3、根據(jù)權利要求1所述的K金無氰電解拋光液，其特征在于：所述K金無氰電解拋光液還可包括：硫酸銨30-70g/L。
4、根據(jù)權利要求4所述的K金無氰電解拋光液，其特征在于：所述硫酸銨最佳配比為：45-55g/L。
5、一種無氰電解拋光方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)、在電解槽內(nèi)配置有包括下列原料配比的水溶液：硫脲50-150g/L，硫酸3-15ml/L或磷酸20-50ml/L或酒石酸20-50g/L；
(2)、將K金首飾接在電解槽的陽極上；
(3)、根據(jù)K金首飾的光澤要求，控制預定電解電壓和預定電解時間。
6、根據(jù)權利要求5所述的無氰電解拋光方法，其特征在于，在上述第(2)步之后第(3)之前，還包括如下步驟：(21)、間斷或連續(xù)地晃動K金首飾。
7、根據(jù)權利要求5或6所述的無氰電解拋光方法，其特征在于，所述預定電解電壓為4伏至10伏，所述預定電解時間為30秒至600秒。
8、一種無氰電解拋光方法，包括如下步驟：
(1)、在電解槽內(nèi)配置有包括下列原料配比的水溶液：硫脲50-150g/L，硫酸3-15ml/L或磷酸20-50ml/L或酒石酸20-50g/L，硫酸銨30-70g/L。
(2)、將K金首飾接在電解槽的陽極上；
(3)、根據(jù)K金首飾的光澤要求，控制預定電解電壓和預定電解時間。
9、根據(jù)權利要求8所述的無氰電解拋光方法，其特征在于，在上述第(2)步之后第(3)步之前，還包括如下步驟：(22)、間斷或連續(xù)地晃動K金首飾。
10、根據(jù)權利要求8或9所述的無氰電解拋光方法，其特征在于，所述預定電解電壓為4伏至10伏，所述預定電解時間為30秒至600秒。
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