[發(fā)明專利]具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件及其制作方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810063200.6
• 申請日: 2008-07-22
• 公開（公告）號: CN101324539A
• 公開（公告）日: 2008-12-17
• 發(fā)明（設計）人: 李揚;李朋;楊慕杰
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江大學
• 主分類號: G01N27/12
• 分類號: G01N27/12;H01L49/00
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司
• 代理人: 韓介梅

1.一種具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件，其特征在于它具有陶瓷基體(1)，在陶瓷基體表面光刻和蒸發(fā)有多對叉指金電極(2)，在叉指金電極上連接有引線(5)，在陶瓷基體和叉指金電極表面涂敷有修飾膜(3)，修飾膜表面沉積有納米纖維結(jié)構(gòu)的濕敏薄膜(4)，所說的修飾膜(3)為聚二烯丙基二甲基氯化銨，納米纖維結(jié)構(gòu)的濕敏薄膜(4)為具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚3-氨丙基三乙氧基硅單溴代正己烷季銨鹽與聚苯胺及聚氧化乙烯的復合物；該濕敏元件采用靜電紡絲的方法制備。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件，其特征在于陶瓷基體表面的叉指金電極的叉指寬度為20～200μm，叉指間隙為20～200μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件的制作方法，其特征在于包括以下步驟：

1)清洗表面光刻和蒸發(fā)有叉指金電極的陶瓷基體，烘干；

2)將步驟1)的陶瓷基體叉指金電極浸漬于質(zhì)量濃度為0.1％～0.25％的聚二烯丙基二甲基氯化銨的水溶液中，提拉，晾干；

3)采用靜電紡絲法將紡絲溶液紡成的納米纖維復合膜沉積在步驟2)制得的涂敷有聚二烯丙基二甲基氯化銨修飾膜的陶瓷基體叉指金電極上，在80～110℃下熱處理8～16小時，得到具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件，紡絲溶液是以下組分的混合液，各組分以重量百分數(shù)計為：3-氨丙基三乙氧基硅單溴代正己烷季銨鹽為5.2～6.1％，聚氧化乙烯為5.2～6.1％，可溶性堿式聚苯胺為0.75～2.3％，及樟腦磺酸0.75～2.3％，無水乙醇為28.8～30.6％，氯仿為54.4～57.5％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有納米纖維結(jié)構(gòu)的高分子復合電阻型濕敏元件的制作方法，其特征在于靜電紡絲條件為：紡絲時間20～80分鐘，靜電紡絲電壓10～25千伏，注射器針頭與接受板的距離5～20厘米，紡絲溶液流速0.1～0.2毫升/小時，紡絲溫度：20～35℃，環(huán)境濕度：25～45％RH。