[發明專利]二元磁性氧化物單晶納米片的制備方法無效
| 申請號: | 200810060743.2 | 申請日: | 2008-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN101560695A | 公開(公告)日: | 2009-10-21 |
| 發明(設計)人: | 胡勇;鐘依均 | 申請(專利權)人: | 浙江師范大學 |
| 主分類號: | C30B29/16 | 分類號: | C30B29/16;C30B7/14;C01G1/02;C01G45/02;C01G51/04;C01G53/04;C01G49/06;H01F1/10 |
| 代理公司: | 金華科源專利事務所有限公司 | 代理人: | 胡杰平 |
| 地址: | 321004浙江省金華市婺城*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二元 磁性 氧化物 納米 制備 方法 | ||
1.一種二元磁性氧化物單晶納米片的制備方法,其特征在于該制備方法是:用二甘 醇作溶劑,以無機鹽醋酸錳、硝酸鈷、硝酸鐵、硝酸鎳中的一種作為反應前驅物,采取回 流的方法控制反應前驅物的熱分解,所得液體經回流老化后,離心分離,得到的沉淀物經 水和乙醇溶液洗滌后,再經烘干、退火,即得到一種二元磁性氧化物單晶納米片;其中: 二甘醇與反應前驅物的配比采用在50ml的二甘醇中加入5.000×10-3mol的反應前驅物, 回流老化的溫度為140℃或170℃或190℃,回流老化的時間為4小時,離心分離采用每分 鐘6000轉速離心分離30分鐘,烘干溫度為60℃,退火采用500℃燒結退火5小時。
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