[發(fā)明專利]采用量子點(diǎn)型光致發(fā)光試劑顯現(xiàn)潛手印的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810056422.5
• 申請日: 2008-01-18
• 公開（公告）號: CN101216428A
• 公開（公告）日: 2008-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊瑞琴;王元鳳;王彥吉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民公安大學(xué)
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N21/84
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 廖元秋

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于手印鑒別技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及多種適于紫外-可見光致發(fā)光顯現(xiàn)潛手印的方法。

背景技術(shù)

手印即人手的皮膚花紋，包括手掌面的乳突花紋(指頭紋、指節(jié)紋和掌紋)、屈肌褶紋、皺紋及傷疤等。它是目前全世界范圍內(nèi)使用最為普遍的一種人身識別方法和證據(jù)形式，它在許多案件的偵查和審判過程都扮演著重要的角色。截至目前，沒有一種方法可以完全替代其準(zhǔn)確、安全、簡便等綜合特性。

在手印顯現(xiàn)100多年的發(fā)展史中，光致發(fā)光法是近20多年發(fā)展起來的一種新型手印顯現(xiàn)方法。因?yàn)樗哂谐杀镜汀踩愿摺⑦x擇能力強(qiáng)、熒光性好等顯著優(yōu)勢，所以頗受法庭科學(xué)工作人員的青睞。目前，該方法主要利用傳統(tǒng)有機(jī)熒光染料對潛手印或“502”熏顯后的潛手印進(jìn)行顯現(xiàn)或增強(qiáng)顯現(xiàn)，如羅丹明6G、龍膽紫、甲基藍(lán)等。它們的不足之處在于熒光性能(熒光強(qiáng)度、熒光壽命、抗漂白能力、斯托克位移等)有時(shí)無法滿足陳舊手印的顯現(xiàn)要求、同手印殘留物的選擇性結(jié)合能力差、毒害性強(qiáng)。實(shí)踐當(dāng)中，往往會產(chǎn)生顯現(xiàn)的紋線不清晰、假特征多、反差小、對操作人員健康危脅大等不良后果。

雖然，近年有人提出使用光致發(fā)光法結(jié)合時(shí)間分辨成像技術(shù)對某些特殊客體表面潛手印進(jìn)行顯現(xiàn)，以規(guī)避背景熒光對光之發(fā)光顯現(xiàn)結(jié)果的干擾；但是這種方法所需條件苛刻、操作復(fù)雜、成本較高，難以普及。

此外，手印顯現(xiàn)技術(shù)中，納米技術(shù)及相關(guān)材料扮演的作用越來越重要。樹形分子包覆的硫化鎘、梯化鎘以及硒化鎘/硫化鋅核殼結(jié)構(gòu)等新型納米熒光材料先后被引入潛在手印顯現(xiàn)的領(lǐng)域中來。它們均是目前廣泛運(yùn)用于生物熒光探針、生物芯片等領(lǐng)域的一種熒光材料，當(dāng)尺寸減小到納米級時(shí)，其內(nèi)部電子、空穴數(shù)目急劇減少，能帶結(jié)構(gòu)由準(zhǔn)連續(xù)的能帶變成分立的能級，因此材料的光躍遷譜線窄化、藍(lán)移、外界光與材料本身的相互作用更為強(qiáng)烈。同傳統(tǒng)熒光染料相比，這類熒光材料具有激發(fā)光譜寬、發(fā)射光譜窄、斯托克位移大、發(fā)射波長位置可控等優(yōu)點(diǎn)。

由于熒光性能方面的強(qiáng)大優(yōu)勢，這類材料成為潛在手印顯現(xiàn)方法的主要發(fā)展趨勢，截至目前，先后出現(xiàn)的納米熒光材料有納米硫化鎘、納米硒化鎘、納米銻化鎘以及其它核殼結(jié)構(gòu)的納米材料，但是在發(fā)展過程中也存在一些問題需要進(jìn)一步解決：比如某些新型顯現(xiàn)試劑制備成本較高、操作復(fù)雜、試劑穩(wěn)定性欠缺、同手印殘留物選擇性結(jié)合差、顯現(xiàn)耗時(shí)較長、紋線的清晰程度以及細(xì)節(jié)特征容易被掩蓋、試劑安全性仍存在隱患。

如Menzel等人曾經(jīng)提出使用末端帶有胺基或羧基的樹形分子為模板，控制硝酸鎘同硫化鈉的反應(yīng)速率，合成低濃度硫化鎘納米顯現(xiàn)試劑，對潛手印進(jìn)行長時(shí)間浸泡處理。通過這種方法獲得的顯現(xiàn)試劑熒光性能和穩(wěn)定性均比較理想；但是由于顯現(xiàn)材料同手印殘留物的化學(xué)結(jié)合速率較低，因此顯現(xiàn)過程耗時(shí)過長(通常為十幾小時(shí))，嚴(yán)重影響工作效率。雖然，Menzel之后曾提出使用二酰亞胺類試劑對上述胺解反應(yīng)過程進(jìn)行調(diào)節(jié)，并以此提高顯現(xiàn)速率，但是優(yōu)化后的顯現(xiàn)過程仍然需要較長時(shí)間，不適于在實(shí)際工作中推廣。此外，該方法還要求使用時(shí)間分辨成像技術(shù)對顯現(xiàn)后的手印進(jìn)行記錄，操作難度較大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是為克服已有技術(shù)的不足之處，提出采用量子點(diǎn)型光致發(fā)光試劑顯現(xiàn)潛手印的方法，該方法以量子點(diǎn)為熒光載體，利用量子點(diǎn)的光致發(fā)光性能以及同手印殘留物特殊的親和能力，可加快顯現(xiàn)速度，并同時(shí)提高顯現(xiàn)的靈敏度和準(zhǔn)確性。

本發(fā)明提出一種采用量子點(diǎn)型光致發(fā)光試劑顯現(xiàn)潛手印的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)合成硒化鎘/硫化鎘核殼納米晶水溶液；

2)制備酸性納米金水溶液：

3)使用去離子水沖洗載有潛手印的光滑客體0.5～3min，然后將其放入所述步驟2)制備的酸性納米金水溶液中，常溫下浸泡5～15min，然后再次使用去離子水沖洗載有潛在手印的光滑客體0.5～3min；

4)將載有潛在手印的光滑客體置于所述步驟1)合成的硒化鎘/硫化鎘核殼納米晶水溶液中，常溫下浸泡5～15min，浸泡過程中，還可以100～300次/分鐘的頻率在水平方向上振蕩載有潛在手印的光滑客體，使?jié)撛谑钟〉靡燥@現(xiàn)；

5)潛手印顯現(xiàn)后，使用去離子水沖洗載有潛在手印的光滑客體0.5～3min，自然狀態(tài)下晾干；

6)將載有顯現(xiàn)手印的光滑客體置于暗室中，在300～400nm范圍內(nèi)長波紫外光激發(fā)下，拍攝成手印圖像。

上述步驟1)合成硒化鎘/硫化鎘核殼納米晶水溶液，具體可包括以下步驟：