[發明專利]純鎂表面磷灰石涂層的仿生法制備

有效

• 申請號: 200810047195.X
• 申請日: 2008-03-31
• 公開（公告）號: CN101249280A
• 公開（公告）日: 2008-08-27
• 發明（設計）人: 王欣宇;龔沛;李世普;閆玉華;陳曉明;韓穎超;江昕;李建華
• 申請（專利權）人: 武漢理工大學
• 主分類號: A61L27/32
• 分類號: A61L27/32;A61L27/04;A61F2/28
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司
• 代理人: 張安國

1.一種在純鎂表面制備磷灰石涂層的方法。其特征是，該制備方法包括以下步驟：

(1)用水砂紙將純鎂片試樣表面打磨粗糙，再將其依次用蒸餾水、無水丙酮、蒸餾水超聲清洗，完成后取出，風干備用；

(2)將步驟(1)清洗干燥過的純鎂片浸入1mol/L?HCl溶液浸泡，酸蝕處理3min后取出，迅速在蒸餾水中清洗干凈，風干備用；

(3)將步驟(2)清洗干燥過的純鎂片浸入0.5mol/L的NaOH溶液中浸泡，溫度為100℃，時間不少于30min后取出，用蒸餾水清洗干凈，風干備用；

(4)用CaCl₂溶液和K₂HPO₄溶液對純鎂片表面進行預鈣化處理

配制0.1mol/L的CaCl₂溶液和0.1mol/L的K₂HPO₄溶液，將經步驟(3)處理過的純鎂片置于CaCl₂溶液中，然后向其中逐滴加入等體積的K₂HPO₄溶液，過程中不斷攪拌，滴加完成后繼續攪拌10min以上，此后靜置1h以上，最后取出用蒸餾水清洗干凈；

(5)將經步驟(4)處理過的純鎂片浸入鈣磷飽和溶液中不少于12d后取出，用去離子水清洗后，即在純鎂片表面得到均勻的磷灰石涂層，其中所述的鈣磷飽和溶液按下述方法配制，配制1000ml，依次溶解8.035g?NaCl、0.347g?K₂HPO₄·3H₂O、39ml?1.0M-HCl、0.438g?CaCl₂和6.118g(CH₂OH)₃CNH₂于超純水中，用1.0M-HCl和(CH₂OH)₃CNH₂調節pH值為7.4。

2.如權利要求1所述的在純鎂表面制備磷灰石涂層的方法，其特征是，所述的步驟(1)中用200#、400#水砂紙將切割成10×10×5mm³的純鎂試樣打磨粗糙，再將其依次用蒸餾水、無水丙酮、蒸餾水超聲清洗10min，完成后取出，風干備用。