[發明專利]一種高溫加熱的真空蒸發鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200810044995.6
• 申請日: 2008-03-17
• 公開（公告）號: CN101245441A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 楊傳仁;張瑞婷;張繼華;陳宏偉
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/54
• 代理公司: 成都惠迪專利事務所
• 代理人: 劉勛

1.一種高溫加熱的真空蒸發鍍膜裝置，包括鐘罩(9)、基片夾(5)和設置在基座(1)上的蒸發室(4)，所述蒸發室(4)內設置有加熱裝置，其特征在于，所述基片夾(5)、蒸發室(4)和加熱裝置為至少兩組；各基片夾安裝在基片夾基座(6)上；還包括驅動基片夾基座(6)與基座(1)相對升降、旋轉的驅動裝置；各蒸發室獨立設置；所述加熱裝置采用的是蒸發源電極(2)和鎧裝管狀加熱器(3)，所述鎧裝管狀加熱器(3)以內螺旋的形式設置在各蒸發室(4)的內壁上；所述蒸發室(4)采用不銹鋼隔熱層材料。

2.如權利要求1所述的高溫加熱的真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述驅動裝置設置在鐘罩(9)上，它包括電機(8)和與基片夾基座(6)連接的機械手(7)。

3.如權利要求1所述的高溫加熱的真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述基座(1)下方還設置有底座(14)，所述驅動裝置設置在基座(1)與底座(14)之間。

4.如權利要求1所述的高溫加熱的真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，還包括溫控裝置(10)，用于對蒸發室內溫度進行監測、控制。