[發(fā)明專利]光刻機(jī)硅片承載臺(tái)及其使用方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810043959.8
• 申請(qǐng)日: 2008-11-20
• 公開（公告）號(hào): CN101738869A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 寧開明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 丁紀(jì)鐵

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，具體涉及一種光刻機(jī)硅片承載臺(tái)， 本發(fā)明還涉及該光刻機(jī)硅片承載臺(tái)的使用方法。

背景技術(shù)

目前使用的硅片承載臺(tái)，與硅片接觸的面是固定不變的。使用這種硅 片承載臺(tái)，如果硅片的背面有顆粒等粘污，硅片的正面就不在同一水平面 上。當(dāng)光刻機(jī)曝光時(shí)，會(huì)使硅片上的顆粒所對(duì)應(yīng)的正面圖形區(qū)域產(chǎn)生離焦 現(xiàn)象，造成光刻圖形的形貌發(fā)生變化，受影響的硅片需要進(jìn)行光刻返工。 影響嚴(yán)重的硅片甚至光刻返工也不能解決問(wèn)題，影響產(chǎn)品品質(zhì)。

如果硅片上的顆粒掉在承載臺(tái)上，還會(huì)影響后續(xù)作業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量，造 成光刻資源的浪費(fèi)，生產(chǎn)成本的提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種光刻機(jī)硅片承載臺(tái)，它可以保 證硅片的正面在同一水平面上。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺(tái)的技術(shù)解決方案為：

包括承載臺(tái)基座、真空孔、應(yīng)力感應(yīng)器、連接器、硅片接送器；所述 承載臺(tái)基座上設(shè)有多個(gè)真空孔及硅片接送器；承載臺(tái)基座底部設(shè)有連接器； 所述承載臺(tái)基座的表面設(shè)置多個(gè)應(yīng)力感應(yīng)器。

所述應(yīng)力感應(yīng)器的頂端高于承載臺(tái)基座的上表面。所述應(yīng)力感應(yīng)器連 接力電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸出端與終端控制器連接，終端控制器 連接動(dòng)力馬達(dá)。所述各應(yīng)力感應(yīng)器彼此獨(dú)立。

應(yīng)力感應(yīng)器通過(guò)感應(yīng)硅片對(duì)其作用力的作用點(diǎn)、大小、方向等信息， 實(shí)現(xiàn)伸縮，調(diào)節(jié)高度。

所述承載臺(tái)基座與硅片接送器之間為間隙配合。

本發(fā)明還提供了該光刻機(jī)硅片承載臺(tái)的使用方法，采用以下步驟固定 硅片：

第一步，驅(qū)動(dòng)硅片接送器的伸縮，將硅片置于各應(yīng)力感應(yīng)器頂端形成 的平面上；

第二步，通過(guò)真空孔對(duì)硅片進(jìn)行吸真空，使硅片與應(yīng)力感應(yīng)器的頂端 保持固定；

第三步，各應(yīng)力感應(yīng)器將感應(yīng)到的硅片對(duì)其作用力的信號(hào)傳送給力電 轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路將該應(yīng)力信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，并將電信號(hào)送入終 端控制器統(tǒng)一處理；

第四步，終端控制器通過(guò)控制每個(gè)應(yīng)力感應(yīng)器的動(dòng)力馬達(dá)，來(lái)控制各 應(yīng)力感應(yīng)器的伸縮，調(diào)節(jié)其高度，使各應(yīng)力感應(yīng)器的頂端形成一個(gè)動(dòng)態(tài)的 接觸面，從而使硅片的正面保持在同一水平面上。

本發(fā)明可以達(dá)到的技術(shù)效果是：

本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺(tái)，通過(guò)調(diào)節(jié)與硅片接觸的各應(yīng)力感應(yīng)器的高 度，能夠保證硅片的正面始終處于同一水平面上，避免因硅片背面存在顆 粒等沾污引起的正面圖形離焦現(xiàn)象，減少光刻返工的現(xiàn)象。

本發(fā)明的使用，既可以減小制造成本，又可以提高硅片流通速度，同 時(shí)可避免因光刻返工帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)影響。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明：

圖1是本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的俯視圖；

圖3是應(yīng)力感應(yīng)器與干凈硅片接觸時(shí)，應(yīng)力感應(yīng)器所受作用力的示意 圖；

圖4是硅片背面有顆粒沾污時(shí)，應(yīng)力感應(yīng)器與硅片接觸所受的作用力 的示意圖。

圖中，1承載臺(tái)基座，2真空孔，3應(yīng)力感應(yīng)器，4連接器，5硅片接送 器，6硅片，F(xiàn)、F’應(yīng)力感應(yīng)器所受的作用力，7顆粒。

具體實(shí)施方式

如圖1、圖2所示，本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺(tái)，包括承載臺(tái)基座1、真 空孔2、應(yīng)力感應(yīng)器3、連接器4、硅片接送器5；承載臺(tái)基座1上設(shè)有多 個(gè)真空孔2及硅片接送器5；承載臺(tái)基座1底部設(shè)有連接器4。

真空孔2用于對(duì)硅片6進(jìn)行吸真空，以固定硅片6。硅片接送器5用于 接送硅片6。承載臺(tái)基座1與硅片接送器5之間為間隙配合，硅片接送器5 能夠在承載臺(tái)基座1上下伸縮，便于硅片6的接送。連接器4將承載臺(tái)基 座1固定于光刻機(jī)機(jī)臺(tái)上。

承載臺(tái)基座1的形狀可以是圓形、矩形、或五角形、星形等形狀。

承載臺(tái)基座1的表面設(shè)置多個(gè)應(yīng)力感應(yīng)器3，應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端高于 承載臺(tái)基座1的上表面，各應(yīng)力感應(yīng)器3的頂端與硅片6背面接觸，用于 支撐硅片6。每個(gè)應(yīng)力感應(yīng)器3彼此獨(dú)立，每個(gè)應(yīng)力感應(yīng)器3連接一個(gè)動(dòng)力 馬達(dá)。各應(yīng)力感應(yīng)器3連接一個(gè)共同的力電轉(zhuǎn)換電路，力電轉(zhuǎn)換電路的輸 出端與終端控制器連接。

本發(fā)明光刻機(jī)硅片承載臺(tái)的使用方法如下：