[發明專利]培養藥用菌類的工業化物理環境無效
| 申請號： | 200810043349.8 | 申請日： | 2008-05-08 |
| 公開（公告）號： | CN101575572A | 公開（公告）日： | 2009-11-11 |
| 發明（設計）人： | 鄔咲博 | 申請（專利權）人： | 鄔咲博 |
| 主分類號： | C12N1/14 | 分類號： | C12N1/14;C12R1/645 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201203上海市普*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 培養 藥用 菌類 工業化 物理 環境 | ||
1.培養藥用菌類的工業化物理環境，包括主要控制的是溫度和濕度兩項環境指標，其特征在于：所述的環境為物理意義上的電環境，通入含負離子空氣，所述的負離子由一個負離子發生器提供位于通風口進氣端；負離子濃度在每立方厘米100個至100萬個之間。
2.權利要求1所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述的負離子濃度控制在在每立方厘米2000個至30萬個之間。
3.權利要求1、2所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述的負離子平均濃度控制在在每立方厘米10000個至15萬個之間。
4.權利要求1、2、3所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述添加負離子比例，不必通入含負離子空氣，而直接在培養間內安置負離子發生器。
5.權利要求1、2、3、4所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述所述的人工干預的超自然環境為電離環境的技術手段為非均勻電場產生的電離空氣。
6.權利要求1、2、3、4、5所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述負離子發生器為紫外線發生器，紫外燈，該紫外線發生器，紫外燈也可以直接置入培養間內。
7.權利要求1、2、3、4、5、6所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：為所述負離子發生器提供水蒸氣，以提高負離子濃度，降低成本。
8.權利要求1、2、3、4、5、6、7所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：：為所述負離子發生器提供水霧化裝置，以提高負離子濃度，降低成本。
9.權利要求1、2、3、4、5、6、7、8所述的培養藥用菌類的工業化物理環境，其特征在于：所述的添加負離子環境為斷續地間隙添加，添加時間與不調節時間比例為1∶1至1∶3之間，單位添加時間單元為5-20分鐘。
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