[發明專利]反應室的清潔方法有效
| 申請號： | 200810042802.3 | 申請日： | 2008-09-11 |
| 公開（公告）號： | CN101670345A | 公開（公告）日： | 2010-03-17 |
| 發明（設計）人： | 王炎雷 | 申請（專利權）人： | 和艦科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海天翔知識產權代理有限公司 | 代理人： | 劉粉寶 |
| 地址： | 215025江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反應 清潔 方法 | ||
1.一種反應室的清潔方法，其特征在于，包括：
進行一第一清潔步驟，包括將一含氟氣體、一含氧氣體及一含氯氣體通入所述反應室，其中所述含氟氣體不包括含硫的氟化物，且其中在進行所述第一清潔步驟時，所述反應室的壓力先設定為介于60～90毫托之間，再設定為介于10～20毫托之間；以及
進行一第二清潔步驟，僅包括將O2通入所述反應室。
2.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氟氣體包括一氟碳化合物。
3.如權利要求2所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述氟碳化合物包括C2F6、CF4或C4F8。
4.如權利要求2所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述氟碳化合物中的部份氟原子被氫原子取代。
5.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氟氣體包括一氟氮化合物。
6.如權利要求5所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述氟氮化合物包括NF3。
7.如權利要求5所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述氟氮化合物中的部份氟原子被氫原子取代。
8.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氧氣體包括CO2、N2O或O2。
9.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述第一清潔步驟的壓力不小于所述第二清潔步驟的壓力。
10.如權利要求9所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述第二清潔步驟設定所述反應室的壓力介于10～20毫托之間。
11.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氟氣體的流量介于100～150sccm之間。
12.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氧氣體的流量介于100～300sccm之間。?
13.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述第二清潔步驟的O2的流量介于100～200sccm之間。
14.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，進一步包括進行一第三清潔步驟，其包括將Cl2通入所述反應室。
15.如權利要求14所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述第三清潔步驟設定所述反應室的壓力介于10～20毫托之間。
16.如權利要求14所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述第三清潔步驟的Cl2的流量介于150～200sccm之間。
17.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述反應室包括一頂部電源與一底部電源，且所述方法還包括：
設定所述頂部電源為介于700～1100瓦之間；以及
設定所述底部電源為0瓦。
18.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氯氣體包括Cl2。
19.如權利要求1所述的反應室的清潔方法，其特征在于，所述含氯氣體的流量介于20～40sccm之間。?
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