[發(fā)明專利]編程電壓控制的復(fù)位閃存無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810040233.9 | 申請(qǐng)日: | 2008-07-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101339949A | 公開(公告)日: | 2009-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹子貴;張博 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/115 | 分類號(hào): | H01L27/115;H01L29/788;H01L29/423 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 201203上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 編程 電壓 控制 復(fù)位 閃存 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種復(fù)位閃存,且特別涉及一種編程電壓控制的復(fù)位閃存。
背景技術(shù)
閃存以其便捷,存儲(chǔ)密度高,可靠性好等優(yōu)點(diǎn)成為非揮發(fā)性存儲(chǔ)器中研究的熱點(diǎn)。從二十世紀(jì)八十年代第一個(gè)閃存產(chǎn)品問世以來,隨著技術(shù)的發(fā)展和各類電子產(chǎn)品對(duì)存儲(chǔ)的需求,閃存被廣泛用于手機(jī),筆記本,掌上電腦和U盤等移動(dòng)和通訊設(shè)備中,閃存為一種非易變性存儲(chǔ)器,其運(yùn)作原理是通過改變晶體管或存儲(chǔ)單元的臨界電壓來控制門極通道的開關(guān)以達(dá)到存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的目的,使存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的數(shù)據(jù)不會(huì)因電源中斷而消失,而閃存為電可擦除且可編程的只讀存儲(chǔ)器的一種特殊結(jié)構(gòu)。如今閃存已經(jīng)占據(jù)了非揮發(fā)性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的大部分市場份額,成為發(fā)展最快的非揮發(fā)性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器,然而現(xiàn)有的閃存在邁向更高存儲(chǔ)密度的時(shí)候,由于受到編程電壓的限制,通過縮小器件尺寸來提高存儲(chǔ)密度將會(huì)面臨很大的挑戰(zhàn),因而研制高存儲(chǔ)密度的閃存是閃存技術(shù)發(fā)展的重要推動(dòng)力。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中通過縮小器件尺寸來提高存儲(chǔ)密度遇到問題,本發(fā)明提供了一種由編程進(jìn)入浮柵電荷的多少來實(shí)現(xiàn)信息存儲(chǔ)的復(fù)位閃存。
根據(jù)上述技術(shù)要求,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種編程電壓控制的復(fù)位閃存,其包括:第一交界區(qū)域和第二交界區(qū)域,位于基底的兩端,第三交界區(qū)域,位于所述基底中間,第一源極和第二源極,與所述基底相連,交界處分別位于所述第一交界區(qū)域和所述第二交界區(qū)域的中間位置,漏極與所述基底相連,交界處位于所述第三交界區(qū)域的中間位置,第一區(qū)域三柵,包括第一控制柵、第一浮柵和第一可編程?hào)牛幱谒龅谝辉礃O和所述漏極之間,所述第一控制柵位于所述第一浮柵的一側(cè),所述第一控制柵與所述第一浮柵皆和所述基底相連,所述第一可編程?hào)藕退龅谝桓畔噙B,第二區(qū)域三柵,包括第二控制柵、第二浮柵和第二可編程?hào)牛幱谒龅诙礃O和所述漏極之間,所述第二控制柵位于所述第二浮柵的一側(cè),所述第二控制柵與所述第二浮柵皆和所述基底相連,所述第二可編程?hào)藕退龅诙畔噙B。
進(jìn)一步的,第一溝道在所述基底內(nèi),位于所述第一交界區(qū)和所述第三交界區(qū)之間,緊挨所述第一浮柵。
進(jìn)一步的,所述第一浮柵與所述基底中的所述第一溝道間以一氧化層分離。
進(jìn)一步的,第二溝道在所述基底內(nèi),位于所述第二交界區(qū)和所述第三交界區(qū)之間,緊挨所述第二浮柵。
進(jìn)一步的,所述第二浮柵與所述基底中的所述第二溝道間以一氧化層分離。
進(jìn)一步的,復(fù)位閃存采用多晶硅作為存儲(chǔ)區(qū),通過不同的編程電壓來控制熱電子注入多晶硅層的數(shù)量。
本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存,制作工藝簡單,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,解決了工藝上由于受到編程電壓限制,通過縮小器件尺寸來提高存儲(chǔ)密度而面臨的困難。
附圖說明
圖1為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的從右側(cè)存儲(chǔ)單元寫入的實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的從左側(cè)存儲(chǔ)單元寫入的實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的存儲(chǔ)單元讀入的實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的存儲(chǔ)單元清零的實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)發(fā)明作進(jìn)一步的描述。
圖1為本發(fā)明編程電壓控制的復(fù)位閃存的結(jié)構(gòu)示意圖,第一交界區(qū)域10和第二交界區(qū)域12,位于基底1的兩端,第三交界區(qū)域11,位于所述基底1中間,第一源極21和第二源極22,與所述基底1相連,交界處分別位于所述第一交界區(qū)域10和所述第二交界區(qū)域12的中間位置,漏極23與所述基底1相連,交界處位于所述第三交界區(qū)域11的中間位置,第一區(qū)域三柵,包括第一控制柵31、第一浮柵33和第一可編程?hào)?5,所述第一區(qū)域三柵皆處于所述第一源極21和所述漏極23之間,所述第一控制柵31位于所述第一浮柵33的一側(cè),所述第一控制柵31與所述第一浮柵33皆和所述基底1相連,所述第一可編程?hào)?5和所述第一浮柵33相連,第二區(qū)域三柵,包括第二控制柵32、第二浮柵34和第二可編程?hào)?6,所述第二區(qū)域三柵皆處于所述第二源極22和所述漏極23之間,所述第二控制柵32位于所述第二浮柵34的一側(cè),所述第二控制柵32與所述第二浮柵34皆和所述基底1相連,所述第二可編程?hào)?6和所述第二浮柵34相連。
第一溝道40在所述基底1內(nèi),位于所述第一交界區(qū)域10和所述第三交界區(qū)域11之間,緊挨所述第一浮柵33。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





