[發(fā)明專利]編程電壓控制的復(fù)位閃存無(wú)效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810040233.9 | 申請(qǐng)日: | 2008-07-04 |
公開(公告)號(hào): | CN101339949A | 公開(公告)日: | 2009-01-07 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹子貴;張博 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
主分類號(hào): | H01L27/115 | 分類號(hào): | H01L27/115;H01L29/788;H01L29/423 |
代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 編程 電壓 控制 復(fù)位 閃存 | ||
1.一種編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于包括:
第一交界區(qū)域和第二交界區(qū)域,位于基底的兩端,第三交界區(qū)域,位于所述基底中間;
第一源極和第二源極,與所述基底相連,交界處分別位于所述第一交界區(qū)域和所述第二交界區(qū)域的中間位置;
漏極與所述基底相連,交界處位于所述第三交界區(qū)域的中間位置;
第一區(qū)域三柵,包括第一控制柵、第一浮柵和第一可編程?hào)牛龅谝粎^(qū)域三柵皆處于所述第一源極和所述漏極之間,所述第一控制柵位于所述第一浮柵的一側(cè),所述第一控制柵與所述第一浮柵皆和所述基底相連,所述第一可編程?hào)藕退龅谝桓畔噙B;
第二區(qū)域三柵,包括第二控制柵、第二浮柵和第二可編程?hào)牛龅诙^(qū)域三柵皆處于所述第二源極和所述漏極之間,所述第二控制柵位于所述第二浮柵的一側(cè),所述第二控制柵與所述第二浮柵皆和所述基底相連,所述第二可編程?hào)藕退龅诙畔噙B。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于:第一溝道在所述基底內(nèi),位于所述第一交界區(qū)和所述第三交界區(qū)之間,緊挨所述第一浮柵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于:所述第一浮柵與所述基底中的所述第一溝道間以一氧化層分離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于:第二溝道在所述基底內(nèi),位于所述第二交界區(qū)和所述第三交界區(qū)之間,緊挨所述第二浮柵。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于:所述第二浮柵與所述基底中的所述第二溝道間以一氧化層分離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的編程電壓控制的復(fù)位閃存,其特征在于:復(fù)位閃存采用多晶硅作為存儲(chǔ)區(qū),通過不同的編程電壓來(lái)控制熱電子注入多晶硅層的數(shù)量。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的