[發明專利]防偽薄膜及其制備方法有效
| 申請號: | 200810039808.5 | 申請日: | 2008-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN101318444A | 公開(公告)日: | 2008-12-10 |
| 發明(設計)人: | 徐良衡;楊凱;葛愛敏 | 申請(專利權)人: | 上海復旦天臣新技術有限公司 |
| 主分類號: | B44F1/12 | 分類號: | B44F1/12;B32B7/02;B32B7/12;B32B27/00;B32B27/18;G03F7/00 |
| 代理公司: | 上海金盛協力知識產權代理有限公司 | 代理人: | 羅大忱 |
| 地址: | 200433上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防偽 薄膜 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種具有可視圖文信息隨視角轉變而改變效果的防偽薄膜及其制備方法。
背景技術
二十世紀八、九十年代以來,假冒偽造犯罪日益成為繼吸販毒、走私、環境污染之外的又一全球公害。據權威部門統計,全世界每年因假冒偽造活動產生的經濟總值達到2500億美元。不僅名優企業產品特別受到制假分子的青睞,而且假冒犯罪活動愈漸滲透到國家經濟與政治安全等特殊領域(如貨幣、有價證券、身份證件等),社會危害力極大,因而各國政府都將打擊假冒犯罪列為一項長期艱巨的任務。
目前被廣泛使用的防偽產品主要分為兩大類,一種為通過肉眼或簡單的方法即可識別的如激光全息、視角變色、水印、各類印刷防偽等,這種防偽技術直觀易于被消費者接受和便于推廣,是一種大眾化的,消費者可能獨自識別真偽的防偽技術。其最大的優點是現場的快速性和直觀性;但目前這類防偽技術已被廣泛應用造成其仿制難度較低、技術壁壘不高、易于仿制,因此其防偽力度和防偽性能不足。另一種為需要借助工具才能識別的如紫外熒光、紅外熒光、電話電碼、條碼、二維碼等,其相對于第一類防偽技術仿制難度更高,防偽性能更好;但其需要借助專用的識別工具,還更多的依賴于消費者本身技能之外的因素作出判斷,如廠家、專家、技術監督部門等。
發明內容
本發明的目的在于提供一種防偽薄膜及其制備方法,以克服現有技術存在的上述缺陷。
本發明所述的防偽薄膜包括依次復合的保護層、粘結層、回歸反射層、可光聚合信息層和反射層,所述回歸反射層呈球狀嵌入粘結層中,可光聚合信息層中刻錄有隨觀察角度變化的圖文信息;
所述保護層1的材料為透明高分子聚酯,優選PET(聚對苯二甲酸己二醇酯)、PC(聚碳酸酯)、PP(聚苯乙烯)或PVC(聚氯乙烯)等;
所述粘結層為高分子樹脂材料,并具有透光率高、耐候性好和韌性高的特點,優選聚氨酯、酚醛樹脂或聚丙烯酸樹脂等;
所述回歸反射層為具有高折射率光學材,優選玻璃或PC(聚碳酸酯)等;
所述可光聚合信息層的材料包括如下重量百分比的組分:
光聚單體:20%~60%
光引發劑:1%~10%
粘結劑:30%~79%
上述各個組分的百分比之和為100%。
優選的,所述可光聚合信息層的材料包括如下重量百分比的組分:
光聚單體:25%~50%
光引發劑:2%~8%
粘結劑:42%~73%
所述光聚單體選自EM210(2-苯氧基乙基丙烯酸酯)、EM2211(乙氧化1,6-己二醇二丙烯酸酯)、EM224(聚乙二醇(200)二丙烯酸酯)、APG-400(烷基多苷)或BPE-500(乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯)中的一種或幾種;
所述粘結劑選自丙烯酸、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲脂或丙烯酸2-乙基己基脂中的一種或幾種;
所述光引發劑選自二苯甲酮、二乙基氨基二苯酮、無色結晶紫或甲苯磺酸-水合物中的一種或幾種;
所述反射層為具有高反射率材料,優選AL(鋁)、Ag(銀)或Cr(鉻);
所述防偽薄膜的制備方法包括如下步驟:
(1)在保護層上涂布粘結層材料,然后將回歸反射層材料植入粘結層,100~130℃烘干2~3分鐘,再在回歸反射層上涂布可光聚合信息層的材料100~150℃烘干3~5分鐘,獲得回歸反射膜;
(2)再將上述回歸反射膜的保護層1的上表面置于設有模板圖文的曝光模板下,對回歸反射膜進行線性偏振紫外光進行第一次曝光處理,曝光時間為0.1~0.9秒,曝光能量為30~50mJ/cm2,曝光角度為60~90°;
通過紫外光輻射,光聚單體分子沿紫外光的偏振方向發生聚合反應,借助定向回歸反射膜的特殊光學結構,使得光聚單體只在與紫外光偏振方向一致方向發生聚合,從而改變其光學性能,形成與曝光模板一致的圖文信息;
改變曝光模板圖文和曝光角度,再對回歸反射膜進行線性偏振紫外光進行第二次曝光處理,曝光時間為0.1~0.9秒,曝光能量為30~50mJ/cm2,曝光角度為15~60°,在另一角度形成不同的圖文信息;然后在可光聚合信息層上高真空蒸鍍反射層材料,獲得本發明的防偽薄膜;
術語“曝光角度”指的是曝光光源與防偽薄膜之間的角度;
優選的,第一次曝光處理和第二次曝光處理的角度差為30~50°;
進一步,上述防偽薄膜的制備方法中,所述的曝光模板為不透光聚酯材料、金屬材料或不透光玻璃等;
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