[發明專利]一種透明半導體薄膜二極管及其制備方法無效
| 申請號: | 200810039602.2 | 申請日: | 2008-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN101308877A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發明(設計)人: | 張群;王穎華;施展 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | H01L29/861 | 分類號: | H01L29/861;H01L29/267;H01L21/329;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透明 半導體 薄膜 二極管 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于透明電子學技術領域,具體涉及一種透明半導體薄膜二極管及其制備方法。
背景技術
新型p型導電透明薄膜與現有的n型透明導電氧化物(TCO)薄膜的結合,可以實現透明二極管和透明薄膜晶體管等透明電子器件,形成嶄新的學科-透明電子學。透明電子學的出現,不僅豐富和發展了硅基電子學的內涵,而且在太陽能電池、平板顯示和光電探測器等領域具有廣泛的應用價值。
1997年Kawazoe等報道了CuAlO2具有p型導電特性和可見光區的透明性以來,出現了許多新型的p型導電透明半導體薄膜材料,其光電性能也逐步得到優化。如同構的CuMO2(M=Ga,Y,Sc,In)中發現了類似CuAlO2的p型導電性質;N、P或As摻雜的ZnO薄膜是近年來p型透明導體研究的另一個熱點,人們采用脈沖激光沉積(PLD)、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、磁控濺射等薄膜生長方法可控地制備出高質量的ZnO薄膜,但是p型摻雜都會在材料內部同時產生“空穴殺手”間隙Zn和氧空位,從而尚未實現穩定而實用化的p型導電透明材料。
近年來,世界各國都在大力推動太陽能光電產業的發展。據報道,日本1992年啟動了新陽光計劃,到2003年其光伏組件生產已占世界50%。德國新可再生能源法規定了光伏發電上網電價,促進了光伏市場和產業的發展,使德國成為繼日本之后世界光伏發電發展最快的國家。世界光伏發電從1998年的154.9兆瓦增加到2003年的742.28兆瓦,年均增長率為36.8%,已超過風力發電的平均增長速度。2004年,全球光伏組件產量是7年前的10倍。盡管存在能量轉換效率較低的問題,太陽能光發電在各個國家正受到特殊的重視。如果太陽光伏能源系統能夠使用p型透明導電氧化物(TCO)材料,就有可能大幅度提高太陽能電池的光電轉換效率,從而降低太陽能光電系統的發電成本,因為n型和p型TCO材料迭加起來作透明陰陽電極可以最大程度地吸收太陽光能。因此,p-型TCO材料的研究已成為各國的研究熱點和各種基金資助的重點。
迄今為止,許多報道利用不同的p型和n型導電透明薄膜開發透明的二極管、透明發光二極管、透明場效應晶體管等。但由于不同薄膜的介面效應以及制備工藝間的兼容性的差異,現有的大部分透明電子器件的研究都還處在實驗室階段,并未商業化。因此要得到性能穩定、重復性好、成本低、適宜大規模生產的器件,還有待于理論和制備工藝的進一步研究和發展。
發明內容
本發明的目的在于提供一種透明性好、可見光平均透射率高,且適于規模化生產的透明半導體薄膜二極管及其制備方法。
本發明提出的透明薄膜二極管,由新型的p型導電摻鋅硫化銅鋁(記為CuAlS2:Zn)透明薄膜和n型導電摻鎢氧化銦(In2O3:W,記為IWO)透明薄膜構成,p-n結的厚度為100~500nm,其中,摻鋅硫化銅鋁中鋅的摻雜量為鋁質量的1-5%,摻鎢氧化銦中鎢的摻雜量為銦質量的1-3%。
上述透明薄膜二極管的制備方法,包括p型導電摻鋅硫化銅鋁的制備和n型導電摻鎢氧化銦的制備。其中,p型導電CuAlS2:Zn透明薄膜采用脈沖等離子體沉積鍍膜方法(PPD)制備,具體步驟為:以按鋅和鋁質量比例制備的摻鋅硫化銅鋁CuAlS2:Zn陶瓷靶為靶材,玻璃為基板,在室溫條件下,用脈沖電子束轟擊靶材,使靶材被燒蝕出來并利用剩余的動能運動到基板表面沉積,其中,工作氣體為Ar,氣壓維持在2.2~2.4Pa;高壓直流功率輸出源設定工作電壓為-16~-19KV,工作電流為3.6~4.8mA,脈沖電子束重復頻率為1.5~2.5Hz,燒蝕時間為60~180分鐘,形成具有非晶結構的p型導電CuAlS2:Zn透明薄膜。
n型導電摻鎢氧化銦In2O3:W透明薄膜的制備采用反應直流磁控濺射方法,具體步驟如下:以按鎢與銦的質量比制成的金屬銦鑲嵌靶為靶材,玻璃為基板,在室溫條件下,通入氧氣和氬氣使反應室工作壓強為0.8~1Pa,控制氧氣分壓為工作壓強的2.0~20.0%,直流磁控濺射電流為50~200mA,濺射電壓為300~430V,濺射時間為30~120分鐘,形成具有非晶結構的n型導電In2O3:W透明薄膜。
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