[發明專利]含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體催化材料及其制備方法無效
| 申請號: | 200810039206.X | 申請日: | 2008-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN101298054A | 公開(公告)日: | 2008-11-05 |
| 發明(設計)人: | 錢東金;劉安;張朝峰;劉冰 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | B01J31/06 | 分類號: | B01J31/06 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬 卟啉 配位聚合 分子 聚集體 催化 材料 及其 制備 方法 | ||
1、一種含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體材料,其特征在于是由反應前驅物通過分子自組裝技術在固體基片上形成的多層膜;其中,所述前驅體包括作為主體的金屬卟啉及其衍生物,以及作為連接基團的金屬離子或金屬配離子;金屬卟啉為含Fe、Co或Mn中心金屬離子的卟啉,金屬卟啉的衍生物為這些金屬卟啉與聚乙烯吡啶形成的金屬卟啉-聚乙烯吡啶復合物;所述的以金屬離子為CdCl2、AgNO3或HgCl2,金屬配離子為K2PdCl4、K2PtCl4或K2PtCl6。
2、根據權利要求1所述的含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體材料,其特征在于所述的前驅體金屬卟啉或其衍生物中還加入有多齒配體,該多齒配體為4,4’-聯吡啶、2,4,6-三吡啶基三嗪或聚乙烯吡啶。
3、根據權利要求2所述的含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體材料,其特征在于所述金屬卟啉為為金屬四吡啶基卟啉、金屬四苯基卟啉、金屬N-甲基四吡啶基卟啉或金屬四磺酸基卟啉。
4、根據權利要求1-3之一所述的含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體材料的制備方法,其特征在于采用下述兩種方法之一種:
(一)利用Langmuir-Blodgett法在氣-液界面通過界面配位反應制備含金屬卟啉配位聚合物分子聚集體多層膜材料
將溶解在有機溶劑中的0.1-0.5mM的金屬卟啉或其衍生物的溶液鋪展在含有0.001-0.1M金屬離子或金屬配離子的水溶液表面,隨著有機溶劑的揮發,金屬卟啉或其衍生物與水溶液中的金屬離子反應,在界面形成一層配位聚合物單分子膜;將該單分子膜在10-30mN/m的表面壓下,利用LB膜制備裝置在固體基片的表面沉積,得到含金屬卟啉配位聚合物分子聚集體的多層膜材料;
(二)在固體表面通過金屬離子與金屬卟啉基團上的吡啶基之間的配位作用制備含金屬卟啉配位聚合物分子聚集體多層膜材料
將經過洗液、蒸餾水和乙醇清洗的固體基片用體積比為3-5%的氫氧化鈉溶液浸泡15-30小時,得到羥基化的親水性固體基片;烘干后,再浸泡在重量含量為2-10%的鹵代苯甲基的硅烷溶液中通過自組裝形成硅烷化的固體基片;將該硅烷化的固體基片與重量含量為5-10%聚乙烯基吡啶的有機溶液加熱回流反應10-20小時,在固體基片表面形成一層聚乙烯基吡啶分子層,然后將其浸泡在含有0.01-3mM金屬配離子或金屬配離子的水溶液中形成金屬離子層;洗凈后,再與含0.1-0.5mM的金屬卟啉或其衍生物的有機溶劑溶液反應,形成一層金屬卟啉層;如此交替進行上述步驟,即制備得含金屬卟啉的配位聚合物分子聚集體多層膜,并直至滿足所需要的厚度為止。
5、根據權利要求4所述的制備方法,其特征在于所述金屬卟啉或其衍生物的溶液中還加入有多齒配體,多齒配體的濃度為1-5mM,該多齒配體為4,4’-聯吡啶、2,4,6-三吡啶基三嗪或聚乙烯吡啶。
6、如權利要求1所述的含金屬卟啉配位聚合物分子聚集體材料作為異相催化劑在催化氧化有機物中的應用。
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