[發明專利]彩膜基板及其制造方法有效
| 申請號： | 200810038305.6 | 申請日： | 2008-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN101329465A | 公開（公告）日： | 2008-12-24 |
| 發明（設計）人： | 田廣彥 | 申請（專利權）人： | 上海廣電光電子有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海申匯專利代理有限公司 | 代理人： | 白璧華 |
| 地址： | 200233上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種彩膜基板的制造方法，包括以下步驟：
提供一基板；
在該基板上沉積含有導電材料的擋光層，經過防反射處理后，通過光刻法形成黑矩陣；
利用光刻法在黑矩陣上依次形成色素層圖案，利用光刻法刻蝕未被色素層覆蓋的黑矩陣，露出黑矩陣中的導電材料；
在黑矩陣和色素層上方沉積覆蓋整個基板的透明導電薄膜，該層透明導電薄膜和黑矩陣中露出的導電材料電學連接。
2、根據權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述導電材料為鉻金屬，所述防反射處理步驟為鉻金屬的氧化處理。
3、根據權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述導電材料為鋁金屬、所述防反射處理步驟為在鋁金屬層上覆蓋一層有機光阻層。
4、根據權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述利用光刻法刻蝕未被色素層覆蓋的黑矩陣時，利用色素層圖案作為掩模版進行刻蝕，露出黑矩陣中的導電材料。
5、根據權利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于所述色素層為R、G、B色素層。
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