[發明專利]陣列基板及其制造方法

無效

• 申請號: 200810037509.8
• 申請日: 2008-05-16
• 公開（公告）號: CN101582430A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 李小和
• 申請（專利權）人: 上海廣電NEC液晶顯示器有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 薛 琦;朱水平

技術領域

本發明涉及一種陣列基板，特別是涉及一種提升對比度的陣列基板及其制造方法。

背景技術

液晶顯示裝置(LCD)是一種被動的顯示裝置，它不能發光，只能使用周圍環境的光，它顯示圖案或字符只需很小能量。正因為低功耗和小型化使LCD成為較佳的顯示方式。液晶顯示所用的液晶材料是一種兼有液態和固體雙重性質的有機物，它的棒狀結構在液晶盒內排列，但在電場作用下能改變其排列方向。

如圖1所示，液晶顯示面板包括第一玻璃基板100(又稱薄膜晶體管陣列基板的玻璃基板)和第二玻璃基板2000(又稱色層基板的玻璃基板)，一液晶層夾于第一玻璃基板100和第二玻璃基板2000之間，第一玻璃基板100和第二玻璃基板2000通過框膠貼合。框膠用于固定第一玻璃基板100和第二玻璃基板2000，并且將液晶和外界隔離。第一玻璃基板100上通過柵極掃描線線、第二金屬信號線、源極以及有源層構成控制像素工作的晶體管開關。柵極掃描線為第一金屬層圖形，信號線和源極為第二金屬層圖形。第二玻璃基板2000上通過色層顯示不同的顏色，通過黑色矩陣2001阻擋不被利用的光。

在面板的制造工藝通常可以通過五次光罩完成，步驟如下：

第一步，在玻璃基板上濺射第一金屬層，通過第一次光罩形成第一金屬層圖形，隨后在第一金屬成圖形上淀積第一絕緣層；

第二步，在第一絕緣層上淀積非晶層，氮離子(n+)非晶層，通過第二次光罩形成非晶以及n+非晶層圖形；

第三步，在非晶層以及n+非晶層圖形上濺射第二金屬層，通過第三次光罩形成第二金屬層圖形；

第四步，在第二金屬層圖形上淀積第二絕緣層，通過第四次光罩形成接觸孔；

第五步，在第二絕緣層上濺射氧化物導電層，通過第五次曝光形成氧化物導導電層圖形；

由于工藝通過五次光罩制造完成，工藝生產時間長，成本高，產量低。由此可以通過四次光罩制造節省成本，提高產量。

如圖2所示，第一玻璃基板100上包括第一金屬層圖形——第一柵極掃描線201和第二柵極掃描線202，第一非晶層401，第二金屬層圖形——第一數據線601，第一接觸孔701和第二接觸孔702，第一氧化物導電層901和第二氧化物導電層902；

四次光罩制造步驟如下：

第一步，在玻璃基板上濺射第一金屬層，通過第一次光罩形成第一金屬層圖形，隨后在第一金屬成圖形上淀積第一絕緣層；

第二步，在第一絕緣層上淀積非晶層以及n+非晶層，接著濺射第二金屬層，通過第二次光罩，形成完全曝光，完全未曝光，半曝光的光刻膠，首先刻蝕形成數據線及晶體管島；其次灰化剩余光刻膠，暴露出半曝光光刻膠下的第二金屬層，并殘留部分光刻膠在完全未曝光的圖形上，刻蝕形成源極，漏極以及溝道，從而形成晶體管結構；

第三步，在第二金屬層圖形上淀積第二絕緣層，通過第三次光罩形成接觸孔；

第四步，在第二絕緣層上濺射氧化物導電層，通過第四次曝光形成氧化物導電層圖形；

四次光罩和五次光罩工藝技術中，存儲電容如圖3一般由第二柵極掃描線202作為第一電極，第二氧化物導電層圖形902作為第二電極，以第一絕緣層300和第二絕緣層800作為介質形成。

四次光罩和五次光罩工藝技術中，存儲電容一般由公共電極作為第一電極，氧化物導電層形作為第二電極，以第一絕緣層和第二絕緣層作為介質形成。但為了保證足夠的存儲電容大小通常需要足夠大的公共電極面積，從而限制了開口率的提升。

為了提高開口率從而提出了新的存儲電容結構，由于工藝通過五次光罩技術完成，工藝生產時間長，成本高，產量低。由此可以通過四次光罩技術節省成本，提高產量。