[發(fā)明專利]直下式背光模組無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810034658.9 | 申請日: | 2008-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN101256307A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔡文彬 | 申請(專利權(quán))人: | 上海廣電光電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;F21V23/06;F21V8/00;G02B6/00;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 | 代理人: | 白璧華 |
| 地址: | 200233上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 直下式 背光 模組 | ||
1、一種直下式背光模組,其特征在于,包括:
一背板;
數(shù)個LED光源,粘貼在所述背板上;
一印刷電路板,置于所述背板上,對所述LED光源進行電連接,在與LED光源對應(yīng)的位置有使LED光源穿過的開口;
一反射片,置于所述印刷電路板上,在與所述LED光源對應(yīng)的位置有使LED光源穿過的開口;
一導(dǎo)光裝置,包括一底面和一出光面,置于所述反射片上,在其底面上與所述LED光源對應(yīng)的位置有圓柱凹槽,所述圓柱凹槽的槽底為圓錐形狀,所述槽底涂覆反射材料。
2、如權(quán)利要求1所述的直下式背光模組,其特征在于,所述導(dǎo)光裝置的底面設(shè)置有反射網(wǎng)點,所述反射網(wǎng)點的分布為以所述圓柱凹槽為中心,排布密度逐步增大,在兩個圓柱凹槽的中間位置密度達到最大。
3、如權(quán)利要求1所述的直下式背光模組,其特征在于,所述導(dǎo)光裝置的出光面設(shè)置有擴散網(wǎng)點,所述擴散網(wǎng)點的分布為以所述圓柱凹槽為中心,排布密度逐步減小,在兩個圓柱凹槽的中間位置密度達到最小。
4、如權(quán)利要求1所述的直下式背光模組,其特征在于,所述圓柱凹槽的槽底圓錐面與所述導(dǎo)光裝置的底面形成的夾角隨所述LED光源排布間距的增大而增大。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海廣電光電子有限公司,未經(jīng)上海廣電光電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810034658.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





