[發(fā)明專利]一種基板可重復使用的制備微小焊球的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810034624.X | 申請日: | 2008-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN101246828A | 公開(公告)日: | 2008-08-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林小芹;羅樂 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人: | 潘振甦 |
| 地址: | 200050*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基板可 重復使用 制備 微小 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種基板可重復使用的制備微小焊球的方法,屬于電子封裝領域。
背景技術
隨著消費性電子產(chǎn)品朝“輕、薄、短、小”及多功能化方向的迅速發(fā)展,對電子組裝技術提出了更高的要求,迫使封裝技術向高密度化、小型化、集成化的方向演變。新的高密度封裝技術不斷涌現(xiàn),其中球柵陣列封裝(BallGrid?Array,BGA)和芯片尺寸封裝(Chip?Scale?Package,CSP)等面陣列封裝形式是未來高密度封裝技術的主流。在BGA和CSP封裝工藝中,用精密焊球替代引腳,實現(xiàn)電路基板與芯片之間的電連接和機械連接,已成為電子封裝的關鍵材料。先進的電子封裝對精密焊球的直徑誤差、球形度和表面質量等方面的要求都非常嚴格,從而對傳統(tǒng)的焊球制備技術提出了新的挑戰(zhàn)。當前,精密焊球的制備方法主要有切絲重熔法、噴霧法和滴注法等。其中,①切絲重熔法首先通過拉絲-剪切或箔片-沖壓等機械加工方法把焊料合金加工成均勻質量的微小合金單元,然后把加工好的合金單元放入某一高溫球化溶液中重熔成形,在表面張力的作用下,合金單元最終凝結成需要的球形。該方法的主要優(yōu)點是工藝可控性好,產(chǎn)品的成品率高,但它同時具有明顯的缺點:制備工序繁多、設備投資大、成本高,并且在多次加工的工藝過程中容易引入各種雜質;②噴霧法是從傳統(tǒng)粉體制備技術延伸而來,其特點是生產(chǎn)能力強,但工藝可控性差,為獲得所需粒徑范圍的焊球,必須經(jīng)過多道分級工藝,容易引起焊球表面氧化及損傷的問題。滴注法是將熔化金屬定徑滴注成型,其特點同樣是生產(chǎn)能力較強,但缺點是不能有效控制液滴的大小和連生,焊球均勻性差、球形度低并具有表面氧化的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基板可重復使用的制備微小焊球的方法。
所采取的技術方案是:(1)采用IC制作工藝,制備可重復使用的基板。首先將硅片進行熱氧化處理;正面濺射金屬導電層;在導電層上沉積一層阻擋層保護導電層不被破壞,并光刻出阻擋層開口露出導電層金屬;(2)在該基板上制備焊球。首先濺射金屬犧牲層并光刻出犧牲層圖形覆蓋在導電層開口上;涂覆厚光刻膠并光刻出電鍍窗口;然后電鍍焊料;電鍍完畢后去除厚光刻膠;在保護氣氛下,使用助焊劑在焊料熔點溫度以上的回流溫度下將焊料進行回流;焊料回流成球后徹底清洗表面殘留的助焊劑;然后濕法腐蝕去除焊料球下的犧牲層,焊料球從基板上脫離,收集焊料球。回流時焊料在相對較長的時間內(nèi)保持熔融液態(tài),有足夠的時間在表面張力的作用下轉變成為表面積最小的球體狀態(tài),從而形成球形度高的焊料球,通過控制回流溫度曲線獲得組織性能最佳的焊料球,同時在助焊劑的作用下,焊料表面的氧化物得以去除,使最終得到的產(chǎn)品的含氧量非常低,焊球表面具有足夠的表面光潔度。
i)所述的硅片為單面拋光的N型(100)或P型(100)硅片;
ii)所述的熱氧化處理工藝為濕法或干法工藝,生成的氧化層厚度0.1~2.0微米;
iii)所述的正面濺射金屬層由一層以上的金屬層構成,起到與底層氧化硅的粘附牢固和導電的作用,金屬層的厚度0.1~2.0微米;
iv)所述的阻擋層為SiO2或Si3N4,阻擋層的厚度0.1~2.0微米;
v)所述的金屬犧牲層是由一層以上的金屬層構成,如TiW或Cu;犧牲層的厚度0.1~5.0微米,起到與導電層、電鍍焊料之間的粘附作用;犧牲層圖形的尺寸大于或等于阻擋層開口的尺寸;犧牲層可用濕法腐蝕去除,腐蝕犧牲層的溶液的要求是不腐蝕電鍍焊料也不腐蝕導電層金屬;
vi)所述的電鍍窗口的尺寸要比犧牲層圖形的尺寸大,起到了增大電鍍面積,減小電鍍時間,提高效率的作用;
vii)所述的保護氣氛為氮氣氣氛。
viii)所述的回流溫度為焊料熔點溫度以上。
本發(fā)明的優(yōu)點是:
①與IC制作工藝相容,根據(jù)需要設計制備不同尺寸的焊料球,尤其是制備微小尺寸的焊球具有更明顯優(yōu)勢,焊球最小粒徑可小于0.15mm,制備的焊球的粒徑分布范圍很窄,避免了多道分級篩分引起的表面氧化以及拉絲或起毛現(xiàn)象;電鍍焊料在其熔點溫度以上回流,在表面張力的作用下回復到表面積最小的球體狀態(tài),凝固后形成球形度很高的焊球,避免了碎裂毛刺以及粘連現(xiàn)象,焊球質量穩(wěn)定且可控性好;可重復使用基板的制備大大降低了生產(chǎn)成本;
②制作了可重復使用的基板,分別由熱氧化硅片、阻擋層、金屬導電層和金屬犧牲層組成;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





