[發(fā)明專利]應(yīng)用膜分離技術(shù)對(duì)超細(xì)二氧化硅洗滌提純的新工藝無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810030579.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-02-01 | 
| 公開(公告)號(hào): | CN101224889A | 公開(公告)日: | 2008-07-23 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張宇平;蔡有興;易琳琪;李舟;李浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖南金馬硅業(yè)有限公司 | 
| 主分類號(hào): | C01B33/037 | 分類號(hào): | C01B33/037 | 
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 | 
| 地址: | 410300*** | 國省代碼: | 湖南;43 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 應(yīng)用 分離 技術(shù) 二氧化硅 洗滌 提純 新工藝 | ||
1.一種涉及超細(xì)二氧化硅粉體的高效洗滌提純和固液分離濃縮新方法,其特征是超細(xì)二氧化硅粉體經(jīng)過酸處理后,形成濃度不高于30%,pH小于7,包含有SiO2顆粒以及H+、SO42-、Fe2+、Fe3+、Cl-等離子性物質(zhì)的粉體懸浮液,加入4倍體積的H2O稀釋后,在小于1MPa的壓力下,通過無機(jī)陶瓷膜將溶液中的離子性物質(zhì)排出膜外,再加入2倍體積的去離子水進(jìn)行洗滌、純化,離子性雜質(zhì)逐漸被全部排出,超細(xì)二氧化硅顆粒被保留,溶液的pH達(dá)到7,電導(dǎo)率小于10μS/cm,濃縮后其質(zhì)量百分比濃度也提高到40%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細(xì)二氧化硅粉體的高效洗滌提純和固液分離濃縮新方法,所說的超細(xì)二氧化硅粉體是指中位粒徑D50小于10μm的結(jié)晶型或無定形二氧化硅顆粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細(xì)二氧化硅粉體的高效洗滌提純和固液分離濃縮新方法,所說的粉體懸浮液是指超細(xì)二氧化硅粉體經(jīng)過調(diào)漿,加入混合酸或單一酸,還原藥劑,在攪拌反應(yīng)30分鐘,形成的濃度不高于30%,pH小于7,包含有SiO2顆粒以及H+、SO42-、Fe2+、Fe3+、Cl-等離子性物質(zhì)的粉體懸浮液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超細(xì)二氧化硅粉體的高效洗滌提純和固液分離濃縮新方法,所說的無機(jī)陶瓷膜為多通道陶瓷膜,孔徑為0.001~1μm,材質(zhì)為氧化鋁或氧化鋯。
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