[發(fā)明專利]一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器掩膜板的制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810026445.1 | 申請(qǐng)日: | 2008-02-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101250685A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柯賢軍;蘇君海;謝志生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 宣國(guó)華 |
| 地址: | 516600廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 有機(jī) 電致發(fā)光 顯示器 掩膜板 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在顯示器制作過(guò)程中用于真空鍍膜部件,特別涉及一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器掩膜板的制作方法。
背景技術(shù)
有機(jī)電致發(fā)光顯示器(OLED)行業(yè)的起步和發(fā)展,給我國(guó)在顯示器行業(yè)在世界的地位帶來(lái)了機(jī)遇。目前,用于OLED制作過(guò)程中真空鍍膜的掩膜板基本上都是產(chǎn)自日、韓等國(guó),國(guó)內(nèi)的OLED掩膜板也大都是從日、韓等國(guó)進(jìn)口,因?yàn)檠谀ぐ寮庸ぞ纫蠛芨撸粗咐旌秃附咏饘俨牧想y度較大,造成制造工藝十分復(fù)雜,使得掩膜板的價(jià)格十分昂貴。
OLED鍍膜掩膜板是由一種導(dǎo)磁性薄不銹鋼片和導(dǎo)磁不銹鋼外框構(gòu)成。在現(xiàn)有技術(shù)中,薄鋼片上預(yù)先開(kāi)有各種矩形、圓形或其它類型的小孔,掩膜板在OLED制作中與玻璃基板通過(guò)磁鐵吸附在一起,在真空環(huán)境下有機(jī)材料或者金屬蒸汽會(huì)沉積在未被掩膜板擋住的區(qū)域而形成設(shè)計(jì)者所需的特定圖案,被掩膜板蓋住部分沒(méi)有材料沉積而被保護(hù)起來(lái)。在真空中,玻璃基板與掩膜板通過(guò)磁鐵吸附被懸于被蒸鍍材料上方,由于玻璃基板上的圖案精度很高,所以要求組成掩膜板的材料導(dǎo)磁性好,且開(kāi)口線條非常平整、規(guī)則;玻璃基板與掩膜板貼合后,二者的相對(duì)位置不能移動(dòng),精度要求10μ級(jí)或以下,那么必然要求掩膜板上的薄鋼片具有較強(qiáng)的張力(一般為20lbs左右)。
中國(guó)發(fā)明專利《有機(jī)真空鍍膜掩膜板的制作方法》(0013136.0),公開(kāi)了用焊錫將合金絲在鐵條上進(jìn)行固定的技術(shù)方案來(lái)保持張力,但是,掩膜板在真空鍍膜以后,鐵條上面的合金絲容易松塌,直接影響拉力,并且合金絲間的線距也不易控制;還有,中國(guó)發(fā)明專利《真空蒸鍍線狀掩膜的掩膜板》(0311675.9),公開(kāi)的技術(shù)方案雖然可以實(shí)現(xiàn)合金絲的網(wǎng)狀拉伸,但是由于是由許多平行排列的絲線組成,而每根線必須獨(dú)立拉伸,這樣就使得線間距和張力一致性很難控制,而且在拉伸完成后,固定架用螺釘進(jìn)行固定,增加了真空腔室內(nèi)的操作難度。而且,以上的兩種方法不易控制精度,最高精度只能達(dá)到3線/mm,但是,對(duì)于OLED的像素(即一個(gè)R,G,B單元)而言,1mm的線寬就已經(jīng)非常大了,而在實(shí)際所應(yīng)用的線寬R,G,B三線總和在200μm左右,其精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于1mm的單線寬。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能夠降低生產(chǎn)成本、簡(jiǎn)化工藝流程且產(chǎn)品結(jié)構(gòu)更為穩(wěn)固的有機(jī)電致發(fā)光顯示器掩膜板的制作方法。
本發(fā)明的目的通過(guò)以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種有機(jī)電致發(fā)光顯示器掩膜板的制作方法,包括以下步驟:(1)取一張導(dǎo)磁薄鋼片,剪裁成所需的大小和形狀,利用不銹鋼刻蝕或者通過(guò)激光切割在薄鋼片上開(kāi)孔以形成圖案,該圖案按照OLED設(shè)計(jì)要求形狀制作;(2)將面積大于薄鋼片的絲網(wǎng)平鋪在刻有圖案的導(dǎo)磁薄鋼片上,在導(dǎo)磁薄鋼片的邊緣涂上拉絲網(wǎng)用的膠水,再去除導(dǎo)磁薄鋼片圖案區(qū)域的絲網(wǎng),然后將固定在導(dǎo)磁薄鋼片邊緣上的絲網(wǎng)進(jìn)行拉伸,導(dǎo)磁薄鋼片也被拉伸繃緊;(3)取一框體,將其貼在拉伸絲網(wǎng)上形成網(wǎng)框,粘接穩(wěn)固后,沿網(wǎng)框的外緣裁下;(4)取另一塊導(dǎo)磁鋼板切割成所需的掩膜板外框,然后把掩膜板外框置于導(dǎo)磁薄鋼片圖案開(kāi)孔區(qū)域的外圍,再將該掩膜板外框與開(kāi)孔區(qū)域外圍的導(dǎo)磁薄鋼片連接在一起,割開(kāi)絲網(wǎng),網(wǎng)框脫落,最后沿掩膜板外框的外緣切去多余鋼片,完成掩膜板的制作。
本發(fā)明通過(guò)絲網(wǎng)拉伸薄鋼片,再通過(guò)貼合外框、焊接掩膜板外框,使得薄鋼片的張力得以保持,形成具有良好張力的掩模板,掩模板外框與具有張力的薄鋼片能夠穩(wěn)固地連接在一起,以使掩膜板在真空鍍膜過(guò)程中可以一直保持很好的張力,實(shí)現(xiàn)較好的蒸鍍效果。
所述不銹鋼刻蝕是指:把所需圖案制作成掩模板的曝光基材,做好備用;將所需規(guī)格的薄鋼片洗凈并雙面均勻涂抹光刻膠,然后在烘箱里按光刻膠的硬化溫度熱烘,再取出冷卻,使用上述曝光基材在曝光機(jī)里單面曝光,再用堿液顯影,便在薄鋼片上獲得所需刻蝕的圖案,最后經(jīng)酸刻液的刻蝕形成以開(kāi)孔組成的圖案。
本發(fā)明使用不銹鋼刻蝕技術(shù)用曝光基材的曝光方法形成圖案,由于曝光機(jī)的精度可到達(dá)1μ級(jí),因而制作出的掩膜板精度很高,大大簡(jiǎn)化了制造掩模板的工序流程;用激光刻蝕形成圖案的精度雖然稍低,但也能夠滿足實(shí)際需求。
所述曝光基材為菲林或者鉻板。
所述掩膜板外框厚度為4~6mm,寬度為8~12mm;所述掩膜板外框的形狀為多邊形。
所述薄鋼片的厚度范圍是20~150μm。
所述步驟(4)中,焊接時(shí)掩膜板外框與薄鋼片的相對(duì)位置通過(guò)夾具進(jìn)行對(duì)準(zhǔn),焊接點(diǎn)在掩膜板外框上均勻分布。可以使得薄鋼片不會(huì)變形,而且掩膜板外框在水平方向上受力均勻不會(huì)翹起,使用效果更好。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 應(yīng)用有機(jī)材料制作有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光材料及有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)半導(dǎo)體組合物以及有機(jī)薄膜和具有該有機(jī)薄膜的有機(jī)薄膜元件
- 有機(jī)材料和包括該有機(jī)材料的有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光元件、有機(jī)發(fā)光裝置、有機(jī)顯示面板、有機(jī)顯示裝置以及有機(jī)發(fā)光元件的制造方法
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