[發(fā)明專利]測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810023654.0
• 申請(qǐng)日: 2008-04-14
• 公開（公告）號(hào): CN101261283A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董曉清;孫盤泉;戴京東;陳仲宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無錫市易控系統(tǒng)工程有限公司
• 主分類號(hào): G01R1/02
• 分類號(hào): G01R1/02;G01R31/26;H01L21/66
• 代理公司: 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 曹祖良

1、一種測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，包括設(shè)置在負(fù)壓吸盤(1)與隔熱盤(2)之間的加熱器(3)，其特征是：在負(fù)壓吸盤(1)的上表面設(shè)有若干負(fù)壓氣槽(4)，在負(fù)壓吸盤(1)內(nèi)設(shè)有與負(fù)壓氣槽(4)連通的負(fù)壓氣孔(5)，在負(fù)壓吸盤(1)上設(shè)有負(fù)壓氣管接頭(6)，所述的負(fù)壓氣管接頭(6)與負(fù)壓氣孔(5)連通，在負(fù)壓吸盤(1)上設(shè)有貫穿負(fù)壓吸盤(1)、加熱器(3)與隔熱盤(2)的卸料孔(7)。

2、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：所述負(fù)壓氣槽(4)為負(fù)壓吸盤(1)上表面開設(shè)的同心圓槽體。

3、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：卸料孔(7)為三個(gè)或者三個(gè)以上，它們均勻地布置在相鄰兩負(fù)壓氣槽(4)之間。

4、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：在負(fù)壓吸盤(1)與加熱器(3)之間設(shè)有熱緩沖盤(8)。

5、如權(quán)利要求4所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：所述熱緩沖盤(8)由熱固性塑料DMC制成。

6、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：在加熱器(3)與隔熱盤(2)之間設(shè)有蓋板(9)。

7、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：在負(fù)壓吸盤(1)的下表面設(shè)有向隔熱盤(2)伸出的下凸環(huán)(10)，相應(yīng)地在隔熱盤(2)的上表面設(shè)有向負(fù)壓吸盤(1)伸出的上凸環(huán)(11)，下凸環(huán)(10)的下端面與上凸環(huán)(11)的上端面接觸并將加熱器(3)、熱緩沖盤(8)與蓋板(9)包容其內(nèi)。

8、如權(quán)利要求1所述的測(cè)試臺(tái)晶圓吸盤裝置，其特征是：在負(fù)壓吸盤(1)的側(cè)壁設(shè)有溫度傳感器(12)。