[發明專利]一種光擴散片及其制作方法

無效

• 申請號: 200810020793.8
• 申請日: 2008-02-27
• 公開（公告）號: CN101231462A
• 公開（公告）日: 2008-07-30
• 發明（設計）人: 申溯;陳林森;周雷;張恒;解正東;魏國軍
• 申請（專利權）人: 蘇州大學;蘇州蘇大維格數碼光學有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G02B5/02;G02F1/13357
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司
• 代理人: 陶海鋒

1.一種光擴散片的制作方法，其特征在于：包括下列步驟：

(1)制作至少具有一個微透鏡結構的壓印模仁；

(2)設定計算機控制程序、壓印參數及圖形文件；

(3)采用微納米熱壓印或紫外壓印的方法，將步驟(1)中的壓印模仁，根據步驟(2)中的控制程序及圖形文件，壓印于待壓印的基材第一壓印工作位置上，基材得到相應個數的凹形微透鏡；

(4)根據壓印參數，改變壓印模仁與待壓印基材的相對位置，至下一個壓印工作位；

(5)重復步驟(3)和(4)，直至完成所有壓印程序。

2.根據權利要求1所述的光擴散片制作方法，其特征在于：將步驟(5)印制所得作為母版，通過精密電鑄工藝轉移至金屬板上，得到壓印模板，利用該壓印模板通過平面對平面或卷對卷方式壓印于光擴散片的基材上，獲得所需的光擴散片。

3.根據權利要求1所述的光擴散片制作方法，其特征在于：所述步驟(4)中，壓印模仁與待壓印基材的相對位置具有的位移自由度為，以待壓印基材所在平面為x-y平面，兩者間具有x軸和y軸方向的平移運動自由度，通過x軸和y軸的平移運動到達下一壓印工作位；通過壓印模仁在z軸方向的平移，完成壓印。

4.根據權利要求1所述的光擴散片制作方法，其特征在于：所述基材上的凹形微透鏡為半圓球形，球直徑為0.01mm～0.1m。

5.根據權利要求1所述的光擴散片制方法，其特征在于：步驟(2)中所述壓印參數包括：微透鏡結構的分布位置、保壓時間、壓力大小、加熱溫度參數，該參數的設定由預先設定的計算機程序及圖形文件控制。

6.根據權利要求1或2所述的光擴散片制作方法，其特征在于：所述壓印模仁由復數個微透鏡結構陣列組成，該陣列圖形由預先設計的計算機程序控制，陣列尺寸在0.05mm×0.05mm至5mm×5mm之間。

7.一種光擴散片，包括透明基材層和光擴散層，其特征在于：所述光擴散層由設置于所述基材層一側表面的復數個凹形微透鏡構成，光擴散層與所述基材層為一體結構。

8.根據權利要求7所述的光擴散片，其特征在于：所述凹形微透鏡為半圓球形或半橢球形，所述基材層為薄膜型或是板材型中的一種。