[發(fā)明專利]基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810018056.4 | 申請日: | 2008-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN101281831A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王建華;劉志遠;耿英三;張穎瑤;姚建軍;王季梅 | 申請(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué);陜西工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | H01H33/664 | 分類號: | H01H33/664 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 李鄭建 |
| 地址: | 710049*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 三分之二 縱向 磁場 電壓 斷口 真空 滅弧室 | ||
1.一種基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,配用于126kV單斷口真空斷路器中,包括依次連接的第一外殼(1)和第二外殼(2),第一外殼(1)和第二外殼(2)分別有第一端蓋(3)和第二端蓋(4),在第一端蓋(3)和第二端蓋(4)上分別設(shè)有第一端部屏蔽罩(5)和第二端部屏蔽罩(6);在第一外殼(1)和第二外殼(2)之間設(shè)有主屏蔽罩(7);
在第一端蓋(3)上連接有靜導(dǎo)電桿(8),在第二端蓋(4)上連接有動導(dǎo)電桿(9);在靜導(dǎo)電桿(8)上連接有靜觸頭(10),在動導(dǎo)電桿(9)上連接動觸頭(11);
靜導(dǎo)電桿(8)與第一端蓋(3)之間通過第一波紋管(12)連接,動導(dǎo)電桿(9)和第二端蓋(4)之間通過第二波紋管(13)連接;在靜觸頭(10)的背面設(shè)有第一均壓環(huán)(14),在動觸頭(11)的背面設(shè)有第二均壓環(huán)(15),其特征在于,所述的靜觸頭(10)和動觸頭(11)分別采用三分之二匝式縱向磁場觸頭,該三分之二匝式縱向磁場觸頭的結(jié)構(gòu)包括一個在觸頭中間的圓柱形導(dǎo)體(21),該圓柱形導(dǎo)體(21)與三個形狀相同的支臂(22)相連,每個支臂(22)與一個弧導(dǎo)體(23)相連,弧形導(dǎo)體(23)對應(yīng)的角度為120°,每個弧形導(dǎo)體(23)與另一個面上的與弧形導(dǎo)體(23)形狀相同的第二弧形導(dǎo)體(24)相連接,第二弧形導(dǎo)體(24)還連接有觸頭片(25);每個支臂(22)與弧形導(dǎo)體(23)之間留有縫隙。
2.如權(quán)利要求1所述的基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,其特征在于,所述的第一外殼(1)和第二外殼(2)的材料為陶瓷或者玻璃。
3.如權(quán)利要求1所述的基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,其特征在于,所述的第一外殼(1)和第二外殼(2)的直徑為290mm至320mm。
4.如權(quán)利要求1所述的基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,其特征在于,所述的第一端蓋(3)和第二端蓋(4)之間的距離為600mm至900mm。
5.如權(quán)利要求1所述的基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,其特征在于,所述的靜觸頭(10)與動觸頭(11)之間的距離為40mm至80mm。
6.如權(quán)利要求1所述的基于三分之二匝縱向磁場觸頭的高電壓單斷口真空滅弧室,其特征在于,所述的三分之二匝式縱向磁場觸頭的直徑為80mm至120mm.
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