[發明專利]一種微電子氣源柜吹掃系統無效
| 申請號: | 200810010853.8 | 申請日: | 2008-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN101276732A | 公開(公告)日: | 2008-10-01 |
| 發明(設計)人: | 王軍;韓一兵;孫艷 | 申請(專利權)人: | 大連八方經濟技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;F17D1/02 |
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| 地址: | 116021遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微電子 氣源柜吹掃 系統 | ||
技術領域
本發明涉及高純或超高純(兆位級或VLSI級)氣體的供應系統裝置領域,特別涉及一種半導體制造業特種氣體的配制、輸送設備的內部系統結構。
背景技術
隨著我國光電產業的迅猛發展,高純或超高純氣體作為原材料應用于半導體、航天、醫藥等各個領域。尤其是半導體制造業,半導體前道工序生產線設備使用了大量高純度、強腐蝕、劇毒和易燃易爆的特種工藝氣體。這些氣體的輸送系統的設計非常復雜,施工要求非常嚴格,一旦出現問題后果將不堪設想。
現今,半導體迎來了超微細時代,半導體器件性能的好壞在很大程度上取決于所用電子氣體的質量,電子氣體純度每提高一個數量級,都會極大推動半導體器件質的飛躍。目前世界半導體制造業正向亞太地區轉移,其中我國是最主要的市場。
微電子氣源柜又稱特氣柜,是用于特種氣體配制、輸送的設備,由柜體和吹掃裝置組成,主要作用為調節氣體壓力、控制氣體流量等作用。常用的氣源柜柜體的殼體上安裝排風口、報警裝置、控制面板等。氣源柜吹掃裝置一般由供氣管路系統和吹掃管路系統組成,其中供氣管路系統用戶端用于工藝氣體的供給,另一端與工藝氣氣瓶相連接。吹掃管路系統,一般與供氣管路系統同一管路或隨意與供氣管路系統相連接,是靠充氣再放氣反復置換氣體,管路間交替開關需要吹掃60次以上才能將氣體完全除去,比較費時費力,浪費氣體。
發明內容
本發明的目的針對國內現有半導體生產線中工藝氣輸配設備的吹掃次數多、氣體替換所用時間較長、沒有在線檢漏設備等技術不足,提供一種微電子氣源柜吹掃系統,主要用于高純或超高純氣體的配制、輸送。
本發明通過以下方法實現:
一種微電子氣源柜吹掃系統,吹掃系統由供氣管路系統和吹掃管路系統組成,特征在于供氣管路系統的管路氣源端部與吹掃管路系統相連通,供氣管路系統的用戶端通過閥門連通有排氣管路。所述的吹掃管路系統由并聯的低壓氣體輸送管路和高壓氣體輸送管路組成,并分別與供氣管路系統的管路連通。所述的供氣管路系統用戶端和吹掃管路系統由單向閥各與一排氣管路相連通。與供氣管路系統用戶端連通的排氣管路與文丘里管的旁路連通,文丘里管進氣端與稀釋氣源管路連通。
本發明的微電子氣源柜吹掃系統,所述的供氣管路系統用于工藝氣氣體的供給,吹掃管路系統由低壓氣體輸送管路與高壓氣體輸送管路并聯組成,低壓氣體輸送管路用于整個管路氣體的吹掃,置換不同的氣體;高壓氣體輸送管路用于對供氣管路系統的安全檢查。高壓氣體輸送管路的最高壓力為20MPa,低壓氣體輸送管路的最高壓力為1.6MPa。
吹掃管路系統低壓氣體輸送管路和排氣管路分別與供氣管路系統的兩端相連,吹掃時,吹掃氣體由低壓氣體輸送管路至供氣管路系統進行吹掃,然后由排氣管路排出,將整個系統的殘留氣體置換完全,保證下一種氣體不被污染,吹掃次數明顯減少,吹掃20次可以將殘留氣體完全排除。這樣減少了吹掃氣體的使用量,同時縮短了氣體替換的時間。
該微電子氣源柜所有的管閥件的物理化學性能、密封件結構設計及其加工工藝、高壓高真空密閉結構的設計、固體顆粒高精度過濾器均需符合要求。
本發明微電子氣源柜吹掃系統通過上述氣體供給管路將特種氣體輸入用戶端使用。首先,吹掃管路系統低壓氣體輸送管路吹掃氣氣瓶與吹掃管路系統排氣管路之間的管路,交替開關吹掃4-5次左右。其次,低壓氣體將整個吹掃管路系統的殘留氣體或空氣吹掃干凈,同時供氣管路系統用戶端連通的排氣管路、文丘里管、文丘里管進氣端與稀釋氣源管路打開排放稀釋后的氣體。置換供氣管路系統的殘余氣體,保證供給的工藝氣體不被污染,管路間氣體置換需要20次左右。再次,打開高壓氣體輸送管路對供氣管路系統進行檢測,檢測管路是否有泄漏,這樣有效防止可燃有毒危險工藝氣體在輸送時的泄露。最后,調節工藝氣氣瓶開關,配制達到要求的工藝氣,向用戶端輸送氣體。該微電子氣源柜吹掃系統能夠保證使用氣體的純度,保障了使用人員的人身安全,在排放工藝廢氣稀釋到一定濃度后進行排放,使其能夠達到環保的要求。
附圖說明
圖1微電子氣源柜吹掃系統的單工藝氣氣瓶供氣結構原理圖
圖2微電子氣源柜吹掃系統的雙工藝氣氣瓶供氣結構原理圖
具體實施方式
實施例1
如圖1所示為微電子氣源柜吹掃系統的單工藝氣氣瓶供氣結構原理圖。
微電子氣源柜吹掃系統所述的吹掃系統由供氣管路系統和吹掃管路系統組成,其中供氣管路系統用于工藝氣體的供給,吹掃管路系統用于整個管路氣體的置換,保證氣體的純度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





