[發明專利]制造圖案化氣相沉積膜的方法

無效

• 申請號: 200810003314.1
• 申請日: 2008-01-16
• 公開（公告）號: CN101225508A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 河村幸則;寺本亮平;川口剛司
• 申請（專利權）人: 富士電機控股株式會社
• 主分類號: C23C16/00
• 分類號: C23C16/00;C23C16/52
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 沈昭坤

1.一種用于制造圖案化氣相沉積膜的方法，所述方法包括以下步驟：

制備包括襯底、多個加熱元件以及形成于所述多個加熱元件上的沉積材料層的沉積面板，所述沉積材料層形成最外面的表面；

布置所述沉積面板和器件襯底使得所述沉積材料層面向所述器件襯底；以及

使所述多個加熱元件中的至少一些生成熱，選擇性地蒸發設置在已生成熱的加熱元件上的所述沉積材料層，并在所述器件襯底的表面上氣相沉積以形成氣相沉積膜。

2.如權利要求1所述的用于制造圖案化氣相沉積膜的方法，其特征在于，使用所述沉積面板，其中所述多個加熱元件以島形形式排列在所述襯底上，用于向所述多個加熱元件提供電流的配線以矩陣狀的形式排列，并可選擇性地使所述多個加熱元件中的每一個生成熱。

3.如權利要求1所述的用于制造圖案化氣相沉積膜的方法，其特征在于，利用所述沉積面板，其中所述多個加熱元件以線狀形式排列在所述襯底上，并可選擇地使所述多個加熱元件中的每一個生成熱。

4.如權利要求1所述的用于制造圖案化氣相沉積膜的方法，其特征在于，所述沉積材料層由顏色轉換材料形成。

5.如權利要求1所述的用于制造圖案化氣相沉積膜的方法，其特征在于，所述器件襯底是頂部發射類型的有機EL顯示襯底，其中反射電極、有機EL層和透明電極以上述順序層疊在支承基底上。