[發明專利]濺射用靶裝置無效
| 申請號: | 200810000046.8 | 申請日: | 2008-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN101220460A | 公開(公告)日: | 2008-07-16 |
| 發明(設計)人: | 尹漢鎬;趙祐奭;金眩秀;金仁燮;崔成龍;崔智雄;樸喆基;樸炯律 | 申請(專利權)人: | 三星康寧株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 | 代理人: | 陸弋;朱登河 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濺射 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及制造薄膜時所使用的濺射靶,更具體地涉及一種安裝于背板之后可易于使用、修補和管理濺射靶。
背景技術
作為透明薄膜,使用ITO(Indium?Tin?Oxide)、IZO(Indium?Zinc?Oxide)、ITZO等。由于這些薄膜具有高導電性和高透射率的特征,且易于進行微細加工,所以目前正用于液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)等平板顯示器(FPD)用的顯示電極。
ITO薄膜的制造方法分為噴霧熱分解法、CVD法等化學成膜法和電子束蒸鍍法、濺射法等物理成膜法。其中,由于使用了ITO靶的濺射法易于大面積化,得到的膜的電阻值和透射率的變化小,且易于調整成膜條件,所以在大部分ITO成膜工序中采用。近年來,隨著顯示面板的大型化,制造面板所使用的玻璃基板的尺寸也日益大型化。因此,制造薄膜時所使用的靶也配合著基板的大小而向著大型化發展。
與向著大型化發展的顯示面板對應,對于靶也適用在背板上配置有多個靶材的多區濺射,還有在靶的背后配置磁鐵,通過移動配置的磁鐵對整個靶進行濺射的磁控濺射。
但是,這種磁控濺射裝置會出現在特定部位迅速產生靶材侵蝕(erosion)的現象。如果這種侵蝕到達靶材和背板之間的粘合層,則即使在其他部分還大量殘留有靶材,也會出現用于濺射的靶的全部不能使用的情況。
為了解決上述問題,專利文獻1提出了使用多區靶材,但加厚形成侵蝕多發部分的內容。然而,由于靶的表面不均勻,從而會發生濺射造成的品質下降的問題。
另外,專利文獻2公開了使用多區靶材,但由不同的材質形成靶材,欲使差別化的侵蝕變得均勻的技術。然而,由于靶材的成分互不相同,這種情況下也會出現難以期望品質均勻的濺射的問題。
專利文獻1:特開2000-204468號公報
專利文獻2:特開1999-117063號公報
發明內容
本發明是為解決上述問題而提出的,目的在于提供一種濺射靶裝置,用于對顯示面板這樣的大面積進行品質均勻的濺射。
另外,本發明的目的在于提供一種濺射靶裝置,對應于靶的不均勻侵蝕,能夠實現靶的長期使用,且可易于更換靶材。
根據本發明的一個示例性的實施方式,濺射用靶裝置包括背板和厚度有差異的基準靶材及加強靶材。背板包括中央表面(central?surface)以及在中央表面的周邊形成的至少一個臺階表面(step?surface)。基準靶材安裝在中央表面上,加強靶材安裝在位于基準靶材的兩側的臺階表面上。
本發明中,臺階表面比中央表面低于規定的級差而形成,相比基準靶材進一步加厚形成加強靶材,以便補償中央表面和臺階表面之間的高度差。背板以中央表面為中心呈左右對稱而形成,從中央表面形成一個或者多個臺階表面。另外,優選越遠離中央表面則臺階表面越低,但也可根據情況增減臺階表面的高度。
磁控濺射的靶材侵蝕受到各種因素的影響。特別是,由于在背板的背面移動的磁體的移動,侵蝕圖形受到很大影響。但是,對大面積的顯示裝置等進行濺射時,相比顯示面板的中央,與端部對應的區域會出現相對大的侵蝕。
因此,本發明對應于這種侵蝕特性,在中央表面的兩側安裝較厚的加強靶材,將加強靶材安裝在背板的相對較低的臺階表面上,從而防止加強靶材的突出。通過防止加強靶材的相對突出,可以防止鄰接的靶材妨礙從靶射出的薄膜粒子的行進。
根據本發明的其他示例性的實施方式,濺射用靶裝置包括:含有中央表面、第1臺階表面和第2臺階表面的背板;安裝在中央表面上的基準靶材;安裝在第1臺階表面上的第1加強靶材;和安裝在第2臺階表面上的第2加強靶材。
在背板上,中央表面相對最高,第1臺階表面和第2臺階表面依次降低而形成。例如,形成ITO薄膜時,靶材使用含有銦、柱石、氧的ITO靶,提供至少三種以上的靶材,分別安裝在中央表面以及第1臺階表面和第2臺階表面上。靶材間的各個級差優選為1mm以內。當靶材間的級差出現1mm以上的差時,則難以形成均勻的薄膜,恐怕會由于結瘤造成薄膜的質量下降。因此,根據所述方法,基準靶材、第1加強靶材和第2加強靶材露出的表面形成實質上同一的平面,可以在大面積的顯示表面上形成均勻的薄膜。
本發明的濺射靶裝置可以對顯示面板這樣的大面積進行品質均勻的濺射,并且可以增加靶整體的使用效率。
另外,就這種靶裝置而言,可以延長靶安裝后的靶的使用時間,能夠選擇性地更換基準靶材和加強靶材,從而可以節約更換靶所需的費用。
附圖說明
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