[發(fā)明專(zhuān)利]濺射用靶裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810000046.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-01-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101220460A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹漢鎬;趙祐奭;金眩秀;金仁燮;崔成龍;崔智雄;樸喆基;樸炯律 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星康寧株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/34 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陸弋;朱登河 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濺射 裝置 | ||
1.一種濺射用靶裝置,相對(duì)大面積對(duì)象物的行進(jìn)方向而配置在寬度方向上,其特征在于,包括:
背板,含有中央表面以及在所述中央表面的兩側(cè)以降低規(guī)定的級(jí)差而形成的至少一個(gè)臺(tái)階表面;
基準(zhǔn)靶材,安裝在所述背板的中央表面上;和
加強(qiáng)靶材,安裝在所述背板的臺(tái)階表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
所述基準(zhǔn)靶材和所述加強(qiáng)靶材由同一材質(zhì)形成,以所述背板的中央為中心呈左右對(duì)稱(chēng)地安裝。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
所述基準(zhǔn)靶材和所述加強(qiáng)靶材由同一材質(zhì)形成,各自的寬度Wn至少為5mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
所述基準(zhǔn)靶材和所述加強(qiáng)靶材露出的表面形成實(shí)質(zhì)上同一的平面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
在所述基準(zhǔn)靶材和所述加強(qiáng)靶材露出的表面之中,相鄰表面間的級(jí)差維持在1mm以?xún)?nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
從所述背板的所述中央表面的兩側(cè)形成有多個(gè)臺(tái)階表面,所述臺(tái)階表面以互不相同的高度形成。
7.一種濺射用靶裝置,相對(duì)大面積對(duì)象物的行進(jìn)方向而配置在寬度方向上,其特征在于,
包括:背板,含有中央表面、在所述中央表面的兩側(cè)低于所述中央表面而形成的第1臺(tái)階表面和在所述第1臺(tái)階表面的兩端低于所述第1臺(tái)階表面而形成的第2臺(tái)階表面;基準(zhǔn)靶材,安裝在所述中央表面上;第1加強(qiáng)靶材,安裝在所述第1臺(tái)階表面上;和第2加強(qiáng)靶材,安裝在所述第2臺(tái)階表面上,
所述基準(zhǔn)靶材、所述第1加強(qiáng)靶材和所述第2加強(qiáng)靶材露出的表面形成實(shí)質(zhì)上同一的平面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濺射用靶裝置,其特征在于,
所述第1加強(qiáng)靶材和第2加強(qiáng)靶材露出的表面間的級(jí)差維持在1mm以?xún)?nèi)。
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C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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