[發明專利]低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料

有效

• 申請號: 200780038139.3
• 申請日: 2007-10-11
• 公開（公告）號: CN101522839A
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 谷好浩;元山賢一
• 申請（專利權）人: 日產化學工業株式會社
• 主分類號: C09D183/08
• 分類號: C09D183/08;C09D5/00;C09D7/12;C09D183/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 馮 雅

技術領域

本發明涉及含有聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由該涂布液形成的低折射率被膜、以及具有該被膜的防反射材料。

背景技術

以往，已知如果在基材的表面形成具有比該基材的折射率小的低折射 率的被膜，則從該被膜的表面反射的光的反射率下降。于是，上述顯示出 低光反射率的低折射率被膜被作為防光反射膜使用，被用于各種基材表面。

例如，專利文獻1揭示了一種方法，該方法是將使作為Mg源的鎂鹽或 烷氧基鎂化合物等與作為F源的氟化物鹽反應生成的MgF₂微粒的醇分散液 或為了提高膜強度而向其中添加四烷氧基硅烷等而成的液體作為涂布液， 將其涂布于玻璃基材上，以100～500℃的溫度進行熱處理，從而在基材上 形成顯示出低折射率的防反射膜。

此外，專利文獻2揭示了一種方法，該方法是將平均分子量不同的2 種以上的四烷氧基硅烷等的水解縮聚物與醇等溶劑混合，制成涂布液，在 由該涂布液形成被膜時，通過對上述混合時的混合比例、相對濕度加以控 制等方法來制作被膜。被膜可通過在250℃以上的溫度下加熱得到，顯示出 1.21～1.40的折射率，具有直徑50～200nm的微坑或凹凸，具有60～160nm 的厚度。被膜形成于玻璃基板上，從而制成低反射玻璃。

此外，專利文獻3揭示了一種低反射率玻璃，該低反射率玻璃由玻璃、 下層膜和上層膜構成，所述下層膜形成于所述玻璃的表面，具有高折射率， 所述上層膜形成于所述下層膜的表面，具有低折射率。上層膜的形成通過 如下方法進行：使CF₃(CF₂)₂C₂H₄Si(OCH₃)₃等具有多氟碳鏈的含氟有機硅化合 物與相對于該含氟有機硅化合物為5～90質量％的Si(OCH₃)₄等硅烷偶聯劑 在醇溶劑中、在乙酸等催化劑的存在下于室溫下水解，然后過濾，將由此 調制成的共縮合物的液體涂布于上述下層膜上，以120～250℃的溫度加熱。

此外，專利文獻4揭示了一種涂布液，該涂布液是通過在不存在水的 條件下以40～180℃的溫度對以特定比率含有以Si(OR)₄表示的硅化合物、 以CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹)₃表示的硅化合物、以R²CH₂OH表示的醇和草酸的反 應混合物加熱而生成的聚硅氧烷溶液。通過將該涂布液涂布于基材表面， 在80～450℃的溫度下使其熱固化，可形成具有1.28～1.38的折射率和 90～115度的水接觸角的被膜。

專利文獻1：日本專利特開平05-105424號公報

專利文獻2：日本專利特開平06-157076號公報

專利文獻3：日本專利特開昭61-010043號公報

專利文獻4：日本專利特開平09-208898號公報

發明的揭示

對于上述在各種顯示裝置等中使用的防反射膜，近年來，在液晶和等 離子體等顯示裝置的大型化、輕量化和薄型化的過程中，為了輕量化和高 透明化等目的，其使用的防反射基材、特別是防反射膜存在膜厚變薄的傾 向，出現因熱而受到的損傷增大的問題。因此，比以前更迫切地希望開發 出能通過膜不會受到損傷的程度的低溫處理得到防反射基材的在較低的溫 度下固化的熱固化型被膜形成用涂布液。然而，上述已有的低折射率被膜 的固化溫度不夠低，希望進一步降低固化溫度。

另外，上述在各種顯示裝置等中使用的防反射膜無法通過在帶硬質涂 層的三乙酰基纖維素膜或帶硬質涂層的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜等膜基材 的表面形成折射率比該基材低的被膜而得到。此時，根據硬質涂層的材質 和親水化處理等表面處理的有無，要形成低折射率被膜的基材膜的表面的 水接觸角具有多種大小，但一直以來都難以在水接觸角較大的基材膜上形 成耐擦傷性好的高硬度的低折射率被膜。