[發明專利]低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料

有效

• 申請號: 200780038139.3
• 申請日: 2007-10-11
• 公開（公告）號: CN101522839A
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 谷好浩;元山賢一
• 申請（專利權）人: 日產化學工業株式會社
• 主分類號: C09D183/08
• 分類號: C09D183/08;C09D5/00;C09D7/12;C09D183/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 馮 雅

1.一種低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A) 和碳數9～20的長鏈胺化合物(B)，通過將它們溶解于有機溶劑(C)而成， 所述聚硅氧烷(A)具有結合有含氟有機基團的硅原子；

含有將聚硅氧烷(A)所具有的硅原子的總量換算成二氧化硅為0.1～15 質量％的聚硅氧烷(A)，以及相對于聚硅氧烷(A)的硅原子的總量1摩爾為 0.01～0.2摩爾的長鏈胺化合物(B)；

有機溶劑(C)由選自碳數1～6的醇及碳數3～10的乙二醇醚的至少1 種構成。

2.如權利要求1所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷(A)具有相對 于其全部硅原子為5～40摩爾％的結合有含氟有機基團的硅原子。

3.如權利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，長鏈胺化合物(B) 是直鏈狀的脂肪族伯胺或仲胺，或是具有脂環結構的脂肪族胺。

4.如權利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，還含有以式(1)表 示的硅化合物(D)，

式中，R¹、R²、R³及R⁴分別獨立地表示氫原子或碳數1～5的飽和烴基， n表示2以上的整數。

5.一種低折射率被膜，其特征在于，將權利要求1～4中任一項所述 的涂布液加熱固化而得。

6.一種防反射材料，其特征在于，將權利要求5所述的低折射率被膜 形成于具有更高的折射率的基材的表面上而得。

7.一種低折射率被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，包括將 下述烷氧基硅烷溶液在相對于所述烷氧基硅烷的全部烷氧基1摩爾為 0.2～2摩爾的草酸的存在下縮聚，得到聚硅氧烷(A)的溶液的工序；以及將 碳數9～20的長鏈胺化合物(B)和有機溶劑(C)的混合溶液與所得聚硅氧烷 (A)的溶液混合的工序；

所述烷氧基硅烷溶液是烷氧基硅烷的濃度以所述烷氧基硅烷的全部硅 原子換算成二氧化硅計為有機溶劑中的4～15質量％的溶液；

所述烷氧基硅烷是含有5～40摩爾％的具有結合有含氟有機基團的硅 原子的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷；

所述涂布液是含有將聚硅氧烷(A)所具有的硅原子的總量換算成二氧 化硅為0.1～15質量％的聚硅氧烷(A)，以及相對于聚硅氧烷(A)的硅原子 的總量1摩爾為0.01～0.2摩爾的長鏈胺化合物(B)的涂布液；

有機溶劑(C)由選自碳數1～6的醇及碳數3～10的乙二醇醚的至少1 種構成；

所述有機溶劑為醇類或乙二醇醚類。