[發明專利]缺陷修復裝置、缺陷修復方法、程序及計算機可讀記錄介質

無效

• 申請號: 200780023473.1
• 申請日: 2007-04-18
• 公開（公告）號: CN101484248A
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發明（設計）人: 中島吉紀;的場宏次;田村壽宏
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/10;B05D1/00;G02F1/13;H01L51/50;H05B33/12
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 張 鑫

1.一種缺陷修復裝置，其特征在于，具備：

固定所傳送的基板的固定單元；

從垂直于由所述固定單元所固定的基板的方向來看、沿與所述基板的傳送方向不同的方向配置并對所述基板上散在的缺陷噴射液滴的多個液滴噴射單元；

安裝有所述多個液滴噴射單元的一列以上的臺架；以及

使所述臺架沿著所述基板的傳送方向相對等速移動的移動單元，

各液滴噴射單元根據表示所述基板上散在的多個缺陷的位置的數據，在所述臺架沿所述基板的傳送方向相對移動期間，沿與所述傳送方向不同的方向相互獨立地移動，并且

在所述臺架上，設置有使各液滴噴射單元沿著垂直于所述傳送方向的方向滑動的多個滑動機構，

從垂直于所述基板的方向上來看，所述多個滑動機構配置為交錯狀，以使得所述各液滴噴射單元的可滑動區域的端部分別有一部分重疊。

2.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

所述移動單元使所述臺架從所述基板的一端到另一端往返移動。

3.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

所述臺架沿所述基板的傳送方向隔開規定間隔設置多列。

4.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

從所述傳送方向來看，利用各滑動機構滑動的液滴噴射單元的滑動范圍的端部互相重合。

5.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

對每一個液滴噴射單元分配所述基板的修復區域。

6.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

各液滴噴射單元在沿著與所述傳送方向不同的方向移動后停止的狀態下，向所述缺陷噴射所述液滴。

7.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

各液滴噴射單元沿著與所述傳送方向不同的方向移動，以使其液滴噴射位置和所述基板上的缺陷位置一致。

8.如權利要求1所述的缺陷修復裝置，其特征在于，

安裝有所述多個液滴噴射單元的臺架的重量為0.5噸以上、4噸以下。

9.一種缺陷修復方法，其特征在于，

固定所傳送的基板，

從垂直于所述固定的基板的方向來看，使安裝有沿著與所述基板的傳送方向不同的方向配置的多個液滴噴射單元的一列以上的臺架，沿所述基板的傳送方向相對地等速移動，

在所述臺架沿所述基板的傳送方向移動期間，根據表示所述基板上散在的多個缺陷的位置的數據，使各液滴噴射單元沿著與所述傳送方向不同的方向彼此獨立并移動，并向所述基板上散在的缺陷噴射液滴，并且

在所述臺架上，設置有使各液滴噴射單元沿著垂直于所述傳送方向的方向滑動的多個滑動機構，

從垂直于所述基板的方向上來看，所述多個滑動機構配置為交錯狀，以使得所述各液滴噴射單元的可滑動區域的端部分別有一部分重疊。