[發(fā)明專利]硫?qū)僭貙拥母呱a(chǎn)量印刷和金屬間材料的使用無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200780014627.0 | 申請(qǐng)日: | 2007-02-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101443892A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 耶羅恩·K·J·范杜倫;克雷格·R·萊德赫爾姆;馬修·R·魯濱遜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 耶羅恩·K·J·范杜倫;克雷格·R·萊德赫爾姆 |
| 主分類號(hào): | H01L21/336 | 分類號(hào): | H01L21/336 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 李 帆 |
| 地址: | 美國(guó)加*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 元素 生產(chǎn)量 印刷 金屬 材料 使用 | ||
發(fā)明領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池且更具體地涉及使用基于IB-IIIA-VIA化 合物的活性層的太陽(yáng)能電池的制造。
發(fā)明背景
太陽(yáng)能電池和太陽(yáng)能組件將日光轉(zhuǎn)換為電。這些電子器件傳統(tǒng)地 使用硅(Si)作為光吸收半導(dǎo)體材料以相當(dāng)昂貴的生產(chǎn)工藝制造。為 使太陽(yáng)能電池更加經(jīng)濟(jì)可行,已開(kāi)發(fā)出如下的太陽(yáng)能電池裝置結(jié)構(gòu): 該結(jié)構(gòu)可以廉價(jià)地利用薄膜、光吸收半導(dǎo)體材料,例如但不限于銅銦 鎵硫代二硒化物,Cu(In,Ga)(S,Se)2,也被稱為CI(G)S(S)。這類太 陽(yáng)能電池通常具有夾在背面電極層和n型結(jié)配對(duì)層之間的p型吸收層。 背面電極層常常是鉬,而結(jié)配對(duì)常常是CdS。在結(jié)配對(duì)層上形成透明 導(dǎo)電氧化物(TCO),例如但不限于鋅氧化物(ZnOx),通常將其用作 透明電極。CIS基太陽(yáng)能電池已經(jīng)證明有超過(guò)19%的功率轉(zhuǎn)換效率。
成本有效地構(gòu)建大面積CIGS基太陽(yáng)能電池或組件中的中心挑戰(zhàn) 是,CIGS層的元素應(yīng)該在所有三個(gè)維度上在納米、介觀和宏觀長(zhǎng)度尺 度上處在窄的化學(xué)計(jì)量比之內(nèi),以使所產(chǎn)生的電池或組件具有高效率。 然而使用傳統(tǒng)的真空基沉積工藝難以在相對(duì)大的襯底面積上實(shí)現(xiàn)精確 的化學(xué)計(jì)量組分。舉例來(lái)說(shuō),通過(guò)濺射或蒸發(fā)難以沉積含有多于一種 元素的化合物和/或合金。這兩種技術(shù)依賴受限于瞄準(zhǔn)線和有限面積源 的沉積方法,趨向于產(chǎn)生不良的表面覆蓋率。瞄準(zhǔn)線軌跡和有限面積 源能夠在所有三個(gè)維度上產(chǎn)生元素非均勻的三維分布和/或在大面積 上產(chǎn)生不良的膜厚度均勻性。這些非均勻性可以發(fā)生在納米、介觀和/ 或宏觀尺度上。此類非均勻性也改變吸收層的局部化學(xué)計(jì)量比,降低 全部電池或組件的潛在(potential)功率轉(zhuǎn)換效率。
已開(kāi)發(fā)出真空基沉積技術(shù)的替代方法。特別是,使用真空半導(dǎo)體 印刷技術(shù)在柔性襯底上制備太陽(yáng)能電池提供了傳統(tǒng)真空沉積太陽(yáng)能電 池的高度成本有效的代替。舉例來(lái)說(shuō),T.Arita及其同事[20th?IEEE PV?Specialists?Conference,1988,第1650頁(yè)]描述了非真空絲網(wǎng) 印刷技術(shù),該技術(shù)包括:以1:1:2的組成比將純銅、銦和硒粉混合并 研磨并且形成可絲網(wǎng)印刷的糊料,將該糊料絲網(wǎng)印刷在襯底上,以及 燒結(jié)該膜以形成化合物層。他們報(bào)道說(shuō),雖然他們以單質(zhì)銅、銦和硒 粉開(kāi)始,然而在研磨步驟之后,糊料含有CuInSe2相。然而,從燒結(jié) 層制造的太陽(yáng)能電池具有非常低的效率,因?yàn)檫@些吸收體的結(jié)構(gòu)和電 子品質(zhì)差。
A.Vervaet等亦報(bào)道了沉積在薄膜上的絲網(wǎng)印刷的CuInSe2[9th European?Communities?PV?Solar?Energy?Conference,1989,第480 頁(yè)],其中將微米尺寸的CuInSe2粉末與微米尺寸的硒粉末一起使用, 以制備可絲網(wǎng)印刷的糊料。在高溫下燒結(jié)非真空絲網(wǎng)印刷所形成的層。 這種方法的困難是尋找用于致密CuInSe2膜形成的合適助熔劑。盡管 以此方式制造的太陽(yáng)能電池也具有不良的轉(zhuǎn)換效率,然而使用印刷和 其它非真空技術(shù)制造太陽(yáng)能電池仍有發(fā)展前景。
其它人曾嘗試使用硫?qū)僭鼗锓勰┳鳛榍绑w材料,例如通過(guò)絲 網(wǎng)印刷沉積的微米尺寸的CIS粉末,非晶態(tài)四元硒化物納米粉末或通 過(guò)在熱襯底上噴涂沉積的非晶態(tài)二元硒化物納米粉末的混合物,以及 其它的例子[(1)Vervaet,A.等,E.C.Photovoltaic?Sol.Energy Conf.,Proc.Int.Conf.,10th(1991),900-3.;(2)Journal?of Electronic?Materials,Vol.27,No.5,1998,第433頁(yè);Ginley 等;(3)WO99,378,32;Ginley等;(4)US6,126,740]。到目前為 止,當(dāng)使用硫?qū)僭鼗锓勰﹣?lái)快速處理形成適合于太陽(yáng)能電池的 CIGS薄膜時(shí)并沒(méi)有獲得有希望的結(jié)果。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





