[發(fā)明專(zhuān)利]ZnO蒸鍍材料及由其形成的ZnO膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200780014294.1 | 申請(qǐng)日: | 2007-04-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101426948A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黛良享 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三菱麻鐵里亞爾株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/24;C04B35/453;C04B35/653;C23C14/08;C23C14/34;H01B5/14 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉蘭;李平英 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | zno 材料 形成 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種ZnO蒸鍍材料及由其形成的ZnO膜,所述ZnO蒸鍍材料用于形成例如太陽(yáng)能電池等中所用的透明導(dǎo)電膜、或者液晶顯示裝置、電致發(fā)光顯示裝置、觸摸面板裝置的透明壓電傳感器的透明電極、以及構(gòu)成顯示裝置的有源矩陣驅(qū)動(dòng)裝置、防靜電導(dǎo)電膜涂層、氣體傳感器、電磁屏蔽面板、壓電器件、光電轉(zhuǎn)換裝置、發(fā)光裝置、薄膜型二次電池等中所用的膜。?
本申請(qǐng)基于2006年4月26日在日本申請(qǐng)的特愿2006-121403號(hào)、2006年9月8日在日本申請(qǐng)的特愿2006-244144號(hào)、以及2007年3月9日在日本申請(qǐng)的特愿2007-060081號(hào)而要求優(yōu)先權(quán),在這里援引其中的內(nèi)容。?
背景技術(shù)
近年來(lái),在制造太陽(yáng)能電池等光電轉(zhuǎn)換裝置時(shí),透明導(dǎo)電膜不可或缺。作為現(xiàn)有的透明導(dǎo)電膜,公知的是ITO膜(摻雜錫的銦氧化膜)。ITO膜具備透明性?xún)?yōu)異、低電阻的優(yōu)點(diǎn)。?
而在太陽(yáng)能電池或液晶顯示裝置等當(dāng)中,一直在謀求低成本化。但是,由于銦的價(jià)格高昂,使用ITO膜作為透明導(dǎo)電膜的話(huà),該太陽(yáng)能電池必然存在價(jià)格高昂的問(wèn)題。此外,在制造太陽(yáng)能電池等時(shí),通過(guò)等離子CVD法在透明導(dǎo)電膜上成膜非晶硅,但此時(shí),如果透明導(dǎo)電膜是ITO膜的話(huà),由于等離子CVD時(shí)的氫等離子體,存在ITO膜劣化的問(wèn)題。?
為了解決這些問(wèn)題,有建議提出:將可更加廉價(jià)制造的、摻雜了Al、B、Si等導(dǎo)電活性元素的氧化鋅系膜來(lái)作為太陽(yáng)能電池等的透明導(dǎo)電膜使用,提出了用于通過(guò)濺射法而形成該氧化鋅系膜的氧化鋅系濺射用靶(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。利用該氧化鋅系濺射用靶,通過(guò)相對(duì)于鋅,以規(guī)定量含有上述導(dǎo)電活性元素,能夠得到具有極低電阻的氧化鋅系燒結(jié)體,該燒結(jié)體中,原料粉末越是微細(xì)、具有高分散性,燒結(jié)密度越高,導(dǎo)電性越是提高。?
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:特開(kāi)平6-2130號(hào)公報(bào)(專(zhuān)利的權(quán)利要求書(shū)中的權(quán)利要求2、權(quán)利要求3及權(quán)利要求4)?
發(fā)明的公開(kāi)?
發(fā)明所要解決的課題?
但是,為了使用上述現(xiàn)有的氧化鋅系濺射用靶進(jìn)行高速成膜,而在施加高電壓的同時(shí)進(jìn)行濺射的話(huà),易發(fā)生異常放電,存在放電狀態(tài)不穩(wěn)定、靶不均勻消耗、得到的膜上產(chǎn)生組成錯(cuò)位、難以得到低電阻膜的問(wèn)題。而減小投入功率、降低電壓的話(huà),又存在成膜速度變慢,氧化鋅系膜的成膜效率大幅降低的問(wèn)題。?
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠高速成膜較低電阻的膜的ZnO蒸鍍材料以及由其形成的ZnO膜。?
用于解決課題的手段?
本發(fā)明的第1方式,涉及用于成膜透明導(dǎo)電膜的ZnO蒸鍍材料。?
其特征的構(gòu)成在于:包含ZnO純度為98%以上的由ZnO粉末制成的ZnO的粒料,粒料含有選自Y、La、Sc、Ce、Pr、Nd、Pm及Sm的1種或2種以上的元素。?
在這種ZnO蒸鍍材料中,使用ZnO的粒料中所含選自Y、La、Sc、Ce、Pr、Nd、Pm及Sm的1種或2種以上的元素的濃度在上述范圍內(nèi)的ZnO蒸鍍材料,來(lái)形成ZnO膜的話(huà),該ZnO膜在寬溫度范圍內(nèi)能夠獲得良好的導(dǎo)電性。?
本發(fā)明中的另一方式,其特征在于:ZnO的粒料為多晶體或單晶體。?
在該ZnO蒸鍍材料中,ZnO的粒料并不是通過(guò)多晶體或單晶體的組織上的差異、而是通過(guò)組成上的差異而產(chǎn)生效果的顯著變化,因此不管ZnO的粒料是多晶還是單晶,只要具有權(quán)利要求1所述的范圍內(nèi)的組成,使用該ZnO蒸鍍材料進(jìn)行ZnO膜的成膜的話(huà),該ZnO膜就能在寬溫度范圍內(nèi)得到良好的導(dǎo)電性。?
本發(fā)明的另一方式,涉及一種ZnO膜,其通過(guò)以ZnO蒸鍍材料為靶材料的真空成膜法而形成。?
該真空成膜法優(yōu)選為電子束蒸鍍法、離子鍍法或?yàn)R射法。?
發(fā)明的效果?
如上所述,通過(guò)本發(fā)明,由于包含ZnO純度為98%以上的由ZnO粉末制成的ZnO的粒料,該粒料以規(guī)定量含有選自Y、La、Sc、Ce、Pr、Nd、Pm及Sm的1種或2種以上的元素,因此,使用該ZnO蒸鍍材料進(jìn)行ZnO膜的成膜的話(huà),該ZnO膜能夠得到良好的導(dǎo)電性。?
此外,ZnO的粒料,不光是在多晶的情況下,就是在單晶的情況下,使用具有上述范圍內(nèi)的組成的ZnO蒸鍍材料進(jìn)行ZnO膜的成膜的話(huà),該ZnO膜就能得到良好的導(dǎo)電性。?
具體實(shí)施方式
以下對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式進(jìn)行說(shuō)明。?
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于三菱麻鐵里亞爾株式會(huì)社,未經(jīng)三菱麻鐵里亞爾株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200780014294.1/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 一種降低水熱法ZnO晶體的螺旋位錯(cuò)密度的方法
- 一種非極性ZnO基發(fā)光器件及其制備方法
- 一種發(fā)光顏色可調(diào)的半導(dǎo)體發(fā)光材料及制備方法
- 一種耐腐蝕ZnO薄膜及其制備方法
- 一種ZnO同質(zhì)pn結(jié)及其制備方法
- ZnO溶膠復(fù)合Sn摻雜ZnO厚膜的制備方法
- 一種ZnO/Ag/ZnO復(fù)合透明導(dǎo)電薄膜的制備方法
- 基于種子層結(jié)構(gòu)控制的超疏水自清潔玻璃的制備方法
- 一種含PMOT:PPV/ZnO:Cu/ZnO:Al異質(zhì)結(jié)的LED及其制備方法
- ZnO納米棒/碳纖維的制備方法及其在光電降解有機(jī)染料中的應(yīng)用





