[發(fā)明專利]ZnO蒸鍍材料及由其形成的ZnO膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200780014294.1
• 申請(qǐng)日: 2007-04-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101426948A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黛良享
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱麻鐵里亞爾株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24;C04B35/453;C04B35/653;C23C14/08;C23C14/34;H01B5/14
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 熊玉蘭;李平英

1.一種ZnO蒸鍍材料，其是用于成膜透明導(dǎo)電膜的ZnO蒸鍍材料， 其特征在于，

包含由ZnO純度為98％以上的ZnO粉末制成的ZnO的粒料，

所述粒料含有選自La、Sc、Ce、Pr、Nd、Pm及Sm的1種或2種 以上的稀土類元素，并且

所述稀土類元素的含量在ZnO蒸鍍材料中為2-20重量％，

所述粒料的直徑為5mm以上且50mm以下，

所述ZnO蒸鍍材料的相對(duì)密度為90％以上。

2.權(quán)利要求1所述的ZnO蒸鍍材料，其中ZnO的粒料為多晶體或 單晶體。

3.權(quán)利要求1所述的ZnO蒸鍍材料，其中所述稀土類元素在ZnO 蒸鍍材料中以氧化物的形式存在。

4.一種ZnO膜，其通過(guò)以權(quán)利要求1或2所述的ZnO蒸鍍材料為 靶材料的真空成膜法而形成。

5.權(quán)利要求4所述的ZnO膜，其中真空成膜法為電子束蒸鍍法、 離子鍍法或?yàn)R射法。