[發(fā)明專利]電極及真空處理裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200780001610.1
• 申請日: 2007-03-20
• 公開（公告）號: CN101360846A
• 公開（公告）日: 2009-02-04
• 發(fā)明（設計）人: 佐竹宏次;坂井智嗣;彌政敦洋;渡邊俊哉;山越英男;茂中俊明
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱重工業(yè)株式會社
• 主分類號: C23C16/505
• 分類號: C23C16/505;C23C16/455;H05H1/46
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

1.一種電極部，其特征在于，具有：

多個電極，其沿著被處理基板的面隔著規(guī)定間隔并排延伸；

臺座，其支承該多個電極；

多個緩沖室，其是在該多個電極之間沿著所述電極延伸且由所述多個 電極和所述臺座包圍的空間；

多個第一噴出口，其沿著所述電極延伸的方向設置在所述臺座，向所 述緩沖室內(nèi)供給反應氣體；

排出部，其設置在相對于所述緩沖室夾著所述電極而鄰接的位置，將 所述反應氣體從所述被處理基板和所述電極之間排出；

第二噴出口，其形成為在所述電極延伸的方向延伸的狹縫狀，從所述 緩沖室朝向所述被處理基板供給所述反應氣體，

所述排出部的寬度和所述第二噴出口的寬度為等離子體鞘層長度的2 倍左右。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極部，其特征在于，

在所述多個電極的與所述被處理基板相對的端部設置有折彎部，所述 折彎部沿著所述被處理基板的面延伸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極部，其特征在于，

從所述第一噴出口噴出的所述反應氣體的噴出方向是與朝向所述第 二噴出口的方向不同的方向。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極部，其特征在于，

設置有遮蔽部，所述遮蔽部遮蔽從所述第一噴出口噴出的所述反應氣 體的流動。

5.一種真空處理裝置，其特征在于，具有：

容器，其在內(nèi)部收容被處理基板；

根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極部。