[實(shí)用新型]用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置及其過(guò)濾裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200720311769.0
• 申請(qǐng)日: 2007-12-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201163616Y
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-12-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王勝弘
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 家登精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67;H01L21/677;B01D46/00
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 周?chē)?guó)城

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置，特別是有關(guān)于一種具有過(guò)濾裝置的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置。

背景技術(shù)

近代半導(dǎo)體科技發(fā)展迅速，其中光學(xué)微影技術(shù)(Optical?Lithography)扮演重要的角色，只要是關(guān)于圖形pattern定義，皆需依賴(lài)光學(xué)微影技術(shù)。光學(xué)微影技術(shù)在半導(dǎo)體的應(yīng)用上，是將設(shè)計(jì)好的線路制作成具有特定形狀可透光的光罩。利用曝光原理，則光源通過(guò)光罩投影至硅晶圓siliconwafer可曝光顯示特定圖案。然而，由于任何附著于光罩或半導(dǎo)體組件上的塵埃顆粒如微粒、粉塵或有機(jī)物都會(huì)造成投影成像的質(zhì)量劣化，用于產(chǎn)生圖形的光罩必須保持絕對(duì)潔凈，而被投射的硅晶圓或者其它半導(dǎo)體組件投射體亦必須保持絕對(duì)清靜，因此在一般的晶圓制程中，都提供無(wú)塵室clean?room的環(huán)境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無(wú)塵室也無(wú)法達(dá)到絕對(duì)無(wú)塵狀態(tài)。

因此，現(xiàn)代的半導(dǎo)體制程皆利用抗污染的光罩存放裝置進(jìn)行光罩的保存與運(yùn)輸，以使光罩保持潔凈；也利用抗污染的半導(dǎo)體組件存放裝置進(jìn)行半導(dǎo)體組件的保存與運(yùn)輸，以使半導(dǎo)體組件保持潔凈。光罩存放裝置是在半導(dǎo)體制程中用于存放光罩，以利光罩在機(jī)臺(tái)之間的搬運(yùn)與傳送，并隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩被雜質(zhì)污染而產(chǎn)生變化；而半導(dǎo)體組件存放裝置是在半導(dǎo)體制程中用于存放半導(dǎo)體組件，以利半導(dǎo)體組件在機(jī)臺(tái)之間的搬運(yùn)與傳送，并隔絕半導(dǎo)體組件與大氣的接觸，避免半導(dǎo)體組件被雜質(zhì)污染而產(chǎn)生變化。因此，在先進(jìn)的半導(dǎo)體廠中，通常會(huì)要求該種用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置的潔凈度要符合機(jī)械標(biāo)準(zhǔn)接口StandardMechanical?Interface；SMIF，也就是說(shuō)保持潔凈度在Class?1以下。故，在用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置中充入氣體便是目前解決的手段之一。

然而，為了進(jìn)一步提升產(chǎn)品的良率及降低制造的成本，除了達(dá)到潔凈度的標(biāo)準(zhǔn)要求之外，還要克服因?yàn)橥鈦?lái)氣體對(duì)于光罩的污染。這樣的外來(lái)氣體除了大氣以外，還有兩個(gè)來(lái)源，其一是源自于高分子材料所制成的放裝置本身所釋出的氣體outgasing，其二是源自于殘留在光罩或半導(dǎo)體組件表面的微量化學(xué)溶液所產(chǎn)生的揮發(fā)氣體。這些非期望氣體會(huì)對(duì)光罩或半導(dǎo)體組件的表面產(chǎn)生霧化作用，使得光罩或半導(dǎo)體組件無(wú)法再使用而必須報(bào)廢的窘境，使得制造成本增加。在存放裝置中充入氣體是目前解決光罩或半導(dǎo)體霧化的手段之一，其中如何保持充入氣體的潔凈度，是一個(gè)重要的議題。

有鑒于此，本實(shí)用新型所提供的具有過(guò)濾裝置的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置，乃針對(duì)現(xiàn)有加以改良。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種具有過(guò)濾裝置的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置，可用來(lái)過(guò)濾空氣中的微塵，以避免光罩或半導(dǎo)體組件受到污染。

為解決現(xiàn)有的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種具有過(guò)濾裝置的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置。此種存放裝置是由第一蓋體與第二蓋體組合而成，形成一內(nèi)部空間可容納光罩或半導(dǎo)體組件，此種存放裝置的第二蓋體設(shè)有至少一孔，用以連通用該存放裝置的內(nèi)部空間以及外部空間，以及一過(guò)濾裝置置于該孔。該過(guò)濾裝置是由過(guò)濾件以及固定件所構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明一較佳實(shí)施例，該過(guò)濾裝置可再包含第一部分、第二部分、固定件與過(guò)濾件，其中該第一部分具有通孔與卡制機(jī)構(gòu)，第二部分具有通孔與嚙合機(jī)構(gòu)，過(guò)濾件置于第一部分或第二部分上，并且由固定件固定過(guò)濾件。

本實(shí)用新型的再一目的在于提供一種具有過(guò)濾裝置的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置，可用來(lái)過(guò)濾空氣中的微塵，以保持該用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置內(nèi)的潔凈度。

本實(shí)用新型的有益效果是，所提供的用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置及其過(guò)濾裝置，可用來(lái)過(guò)濾空氣中的微塵，以避免光罩或半導(dǎo)體組件受到污染。

附圖說(shuō)明

圖1：本實(shí)用新型用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置的示意圖；

圖2A至圖2D：本實(shí)用新型用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置設(shè)置過(guò)濾件與固定件的示意圖；

圖3A至圖3D：本實(shí)用新型用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置與過(guò)濾件及固定件的設(shè)置示意圖；

圖4A至圖4C：本實(shí)用新型用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置中固定件與過(guò)濾件的關(guān)是示意圖；

圖5A至圖5D：本實(shí)用新型用以存放半導(dǎo)體組件或光罩的存放裝置與過(guò)濾裝置配置示意圖；

圖6：本實(shí)用新型過(guò)濾裝置的分解圖；

圖7A至圖7F：本實(shí)用新型過(guò)濾裝置中固定件與過(guò)濾件的示意圖；