[實(shí)用新型]古陶瓷羥基鑒定裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200720310028.0
• 申請(qǐng)日: 2007-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN201107272Y
• 公開（公告）日: 2008-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹敬;崔文彥;劉智光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 曹敬
• 主分類號(hào): G01N21/65
• 分類號(hào): G01N21/65;G01N35/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種古陶瓷羥基鑒定裝置，具有激光拉曼光譜儀、電源，其特征在于：所述的古陶瓷羥基鑒定裝置還具有升降承物盤和激光拉曼光譜儀目鏡延長管；所述的升降承物盤承載被測(cè)物；所述的激光拉曼光譜儀目鏡延長管的一端光學(xué)連接在所述的激光拉曼光譜儀的目鏡下，另一端對(duì)著升降承物盤承載的被測(cè)物；所述的電源給激光拉曼光譜儀供電。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的古陶瓷羥基鑒定裝置還具有殼體、進(jìn)口、出口和傳送裝置；所述的進(jìn)口和出口水平的設(shè)置在所述的殼體的兩端；所述的傳送裝置設(shè)置在所述的殼體內(nèi)，連通并穿過所述的進(jìn)口和出口；所述的激光拉曼光譜儀目鏡延長管的一端設(shè)置在所述的殼體內(nèi)的中部，穿過所述的殼體，位于傳送裝置傳送軌跡的一側(cè)；所述的升降承物盤連接在所述的傳送裝置上；所述的電源給所述的傳送裝置和激光拉曼光譜儀供電。

3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的升降承物盤設(shè)置有固定裝置；所述的固定裝置設(shè)置在所述的升降承物盤的上表面。

4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的固定裝置為伸縮固定架；所述的伸縮固定架具有伸縮桿和固定架；所述的伸縮桿的數(shù)量大于等于2根，其豎直向上，一端均勻?qū)ΨQ的固定在所述的升降承物盤的邊緣上，另一端固定在為圓形的固定架上。

5、根據(jù)權(quán)利要求2所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的古陶瓷羥基鑒定裝置還設(shè)置有加熱恒溫間；所述的加熱恒溫間設(shè)置在所述的殼體內(nèi)，所述的傳送裝置的傳送軌跡上，穿過加熱恒溫間，在所述的升降承物盤和進(jìn)口之間；所述的加熱恒溫間設(shè)置有進(jìn)口門、出口門和加熱裝置；所述的進(jìn)口門、出口門設(shè)置在所述的傳送裝置的傳送軌跡上，寬度大于所述的升降承物盤的寬度；所述的加熱裝置設(shè)置在所述的加熱恒溫間內(nèi)的底部。

6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的進(jìn)口門、出口門為電動(dòng)門；所述的加熱裝置為電加熱裝置；所述的進(jìn)口門、出口門和加熱裝置由電源供電。

7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的古陶瓷羥基鑒定裝置還設(shè)置有清洗間；所述的清洗間設(shè)置在所述的殼體內(nèi)，所述的傳送裝置的傳送軌跡上，穿過清洗間，在所述的加熱恒溫和進(jìn)口之間；所述的清洗間設(shè)置有設(shè)置有清洗間進(jìn)口門、清洗間出口門和清洗裝置；所述的清洗進(jìn)口門、清洗出口門設(shè)置在所述的傳送裝置的傳送軌跡上，寬度大于所述的升降承物盤的寬度；所述的清洗裝置設(shè)置在所述的清洗間內(nèi)的上部。

8、根據(jù)權(quán)利要求7所述的古陶瓷羥基鑒定裝置，其特征在于：所述的清洗進(jìn)口門、清洗出口門為電動(dòng)門，由電源供電；所述的清洗裝置為噴霧裝置；所述的噴霧裝置設(shè)置有清洗劑容器和電噴嘴，由電源供電。