[實用新型]一種縮短外延尾氣處理器維護時間的裝置無效
| 申請號: | 200720169416.1 | 申請日: | 2007-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN201061753Y | 公開(公告)日: | 2008-05-21 |
| 發明(設計)人: | 何自強;馮泉林;常青 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院有研半導體材料股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 | 代理人: | 郭佩蘭 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 縮短 外延 尾氣 處理器 維護 時間 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種縮短外延尾氣處理器維護時間的裝置。
背景技術
外延工藝中需要大量的HCL,三氯氫硅(TCS),B2H6,PH3,H2等特殊氣體,其中,TCS,B2H6,PH3都為劇毒氣體,這些氣體會影響廠房周邊的人生和環境安全,需要避免直接排入空氣中,尾氣處理器是外延工藝過程中必須的尾氣處理裝置。外延用尾氣處理器是專門設計處理外延尾氣廢氣的裝置。通過外延爐的排氣管和尾氣處理器的進氣口連接,外延廢氣進入尾氣處理內發生反應,然后排出無污染的氣體。
一般的尾氣處理裝置包括燃燒式、水洗式、沉積式三種。水洗式通過尾氣處理器的排氣口和一個特制的文氏管連接,依靠文氏管提供的負壓,使得外延爐內的工藝氣體被抽入尾氣處理器內。在尾氣處理器內,外延廢氣中的HCL,TCS,B2H6,PH3經過不斷的水洗,充分和水發生反應而被去除。剩余的H2、N2被排到空氣中。其中TCS(三氯氫硅)和水的反應為:
2SiHCl3+3H2O→O=SiH-O-SiH=O+6HCl
生成的Si2H2O2為粉末狀固體,而且隨著時間的延長,這些粉末會聚集,生成白色絮狀物,堵塞進氣口。
在常壓外延工藝中尾氣處理器主要有兩個作用:
1、處理外延沉積過程中產生的有毒廢氣
2、尾氣處理器文丘里產生的負壓,在外延爐沉積腔內形成穩定的負壓,保證外延層的正常生長。
由于尾氣處理器內的水被霧化,形成大量水汽,所以在尾氣的進氣口,TCS和水汽會發生反應,并附著在進氣口處。隨著處理時間的延長,這些附著的硅化物不斷的長大,逐漸堵塞進氣口,導致外延爐內負壓降低,正常生產不能進行。這時需要清理進氣口的絮狀硅化物,尾氣處理系統需要停機,進行維護。
目前尾氣處理器的維護主要有以下問題:
1、維護工作的安全性,由于TCS、B2H6、PH3等為劇毒氣體,為保證工作人員的安全,尾氣處理器的維護工作必須等待外延工藝停止1小時左右,才能打開尾氣管道。在打撈絮狀硅化物的過程中,也很有可能會有一些沒有反應的毒氣泄漏出來。
2、進氣口積累的絮狀硅化物,在進入底部水槽內缺乏有效的方法將其粉碎。理論上這些絮狀的化合物會在機器運行的過程中,經過水流的沖擊被破碎。但是實際使用中發現,大部分硅化物很難被粉碎,而是在蓄水槽壁,水位傳感器上聚集,會導致水位傳感器失靈,尾氣處理器發生錯誤報警后,外延爐也會被迫關機。由于尾氣處理器報警導致的外延爐自動關機的直接損失大約5萬美元。所以每次維護完成后,必須將水槽內的絮狀化合物清理干凈。
在實際生產中,縮短單次尾氣處理器的維護時間、延長尾氣處理器整體維護周期,消除尾氣處理過程中形成的絮狀硅化物,是保證外延工藝正常運行的必要條件。
發明內容
本實用新型的目的是提供一種縮短外延尾氣處理器維護時間的裝置,使用本裝置可以減少系統的維護時間、延長維護周期,整體上提高外延工藝的生產效率,保證外延工藝正常運行。
為達到上述目的,本實用新型采用以下技術方案:這種縮短外延尾氣處理器維護時間的裝置,它包括:水池、水霧過濾器,盲板,所述的盲板上裝有以下幾條進入水槽的管道:氮氣吹掃管道;自來水管道;由泵輸送化學液的管道;連接水泵的管道,該管道通入水池的一端帶有漏斗。
化學藥品可以是氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液。
本實用新型的優點是:引入自動加堿和氮氣吹掃管路,在不拆開尾氣處理器的基礎上,通過對尾氣處理系統的改進,可以減少系統的維護時間、延長維護周期,整體上提高外延工藝的生產效率,在整個維護過程避免了相關管路的拆卸,從而避免的管路中殘余氣體的泄漏。
附圖說明
圖1:本實用新型的裝置結構示意圖
具體實施方式
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