[實(shí)用新型]一種制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200720157134.X
• 申請(qǐng)日: 2007-07-03
• 公開（公告）號(hào): CN201061929Y
• 公開（公告）日: 2008-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巫吉生;張嘉原
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 志圣工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): B41F23/04
• 分類號(hào): B41F23/04
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 張全文

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口，尤其涉及一種在需散熱的制程設(shè)備中，可均勻各層處理板前后段氣流散熱或制程效果制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口。

背景技術(shù)

以特定頻率的光源照射相對(duì)應(yīng)能隙的物體，可令原本位于價(jià)帶的電子跳躍至傳導(dǎo)帶，以產(chǎn)生較大的活性與特定的反應(yīng)，利用特定光源照射的處理方式，被廣泛的運(yùn)用于各式制程設(shè)備中。

操作高頻率光源，例如紫外線等高頻率光源時(shí)，無可避免的會(huì)伴隨產(chǎn)生相當(dāng)多的熱量，這些熱量往往并非制程中所需要的，甚至是制程中必需避免的，否則容易引起產(chǎn)品質(zhì)量的變化，因此制程設(shè)備中便需要搭配各式降溫設(shè)計(jì)，其中較常見的為氣冷系統(tǒng)，通過壓縮機(jī)或鼓風(fēng)機(jī)等設(shè)備將低溫氣體導(dǎo)入制程設(shè)備中，據(jù)以令受光照的基板等產(chǎn)品，可由氣流帶走多余的熱量，使得基板等物體可保持在一定的溫度下，以維持產(chǎn)品質(zhì)量，增進(jìn)制程效果。

現(xiàn)有的制程設(shè)備裝置如美國專利第3994073、4646446號(hào)所揭露的，其皆簡單的以一壓縮機(jī)或鼓風(fēng)機(jī)，將低溫氣體由一進(jìn)氣端吹入制程設(shè)備的處理區(qū)，再由排氣端將溫度升高后的氣體排出，此種方式若使用于具有較大處理區(qū)的制程設(shè)備上，則該處理區(qū)前段與后段之間保持有一段距離，當(dāng)?shù)蜏貧怏w經(jīng)由前段流到后段時(shí)，氣體溫度已升高不少，因此對(duì)后段而言，氣冷效果不佳，進(jìn)而使處理區(qū)內(nèi)受光照的基板等物體散熱效果不一，部分基板無法有效散熱，質(zhì)量不佳、良率下降、制程效果較差。因此就整體而言，其可說是相當(dāng)不具有實(shí)用性，仍有加以改良的必要。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口，旨在解決現(xiàn)有的制程設(shè)備的氣流受處理區(qū)規(guī)模的影響，較大的處理區(qū)其處理板的前段與后段氣流流量與氣流溫度不同，使制程效果較差的問題。

本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口，其包括一處理區(qū)，并為該處理區(qū)提供一主氣流，該處理區(qū)內(nèi)設(shè)有一輔助進(jìn)氣部，該輔助進(jìn)氣部延伸有多個(gè)輔助氣管，該輔助氣管上設(shè)有多個(gè)輔助氣孔；

且因輔助氣管內(nèi)氣流會(huì)隨輔助氣孔向外噴出，故輔助氣管末端的氣體壓力必然較輔助氣管頭端小，為避免輔助氣管各輔助氣孔所噴出的輔助氣流流量相差甚大而降低散熱、制程效果，故該輔助氣孔的大小可由輔助氣管的末端向頭端漸縮，于輔助氣管頭端以較小的輔助氣孔來抑制過多的輔助氣體噴出，減少頭端的流量；而于輔助氣管末端以較大的輔助氣孔來減少輔助氣體噴出的壓力，增加末端的流量，以達(dá)到輔助氣體均勻噴出至處理板各處的目的；

本實(shí)用新型提供的制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口，其在裝置本體原有的主氣流之外，更設(shè)有一輔助進(jìn)氣部，該輔助進(jìn)氣部在處理板內(nèi)每間隔一小段距離便形成有一輔助氣管，而每一氣管皆設(shè)有輔助氣孔且可噴出輔助氣體，以有效平衡散熱效果，免除現(xiàn)有的僅具有主氣流的裝置本體，若處理區(qū)較大，則該處理板前段與后段則散熱效果差異甚大，進(jìn)而影響成品與制程效果，因此本實(shí)用新型實(shí)是相當(dāng)具有實(shí)用性及進(jìn)步性，值得產(chǎn)業(yè)界來推廣，并公諸于社會(huì)大眾。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型提供的制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口的外觀立體示意圖；

圖2是本實(shí)用新型提供的制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口的處理板示意圖；

圖3是本實(shí)用新型提供的制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口輔助進(jìn)氣部于處理板內(nèi)的剖視示意圖；

圖4和圖5是本實(shí)用新型提供的制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口的輔助氣管的不同實(shí)施例的示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

本本實(shí)用新型涉及一種制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口，請(qǐng)參閱圖1至圖3，該制程設(shè)備輔助進(jìn)氣口主要包括一制程設(shè)備的裝置本體1，該裝置本體1內(nèi)設(shè)有處理區(qū)10，該處理區(qū)10內(nèi)可設(shè)置一個(gè)或多個(gè)處理板101，且該裝置本體1內(nèi)設(shè)有鼓風(fēng)機(jī)(圖未示)，為處理區(qū)10提供一主氣流20以降低其溫度，為了便于說明，本實(shí)用新型以一現(xiàn)有的紫外線多層爐作為結(jié)構(gòu)進(jìn)行敘述，而該現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)并不屬本實(shí)用新型所要申請(qǐng)的，故其詳細(xì)功效與作動(dòng)原理在此不再贅述，在此先說明。

該處理區(qū)10在各處理板101上設(shè)有輔助進(jìn)氣部11，該輔助進(jìn)氣部11具有一進(jìn)氣口111可與裝置本體1內(nèi)的鼓風(fēng)機(jī)連接，并導(dǎo)入部分的低溫冷卻氣體，以使輔助進(jìn)氣部11的氣體更為均勻的吹入處理區(qū)10；