[實(shí)用新型]基板處理裝置及其控制裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200720140104.8
• 申請(qǐng)日: 2007-03-27
• 公開（公告）號(hào): CN201032627Y
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本真弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;H01L21/67;H01L21/306;H01L21/02;B08B3/00;G05B19/418
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 何立波;張?zhí)焓?/td>

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及對(duì)半導(dǎo)體晶片及液晶顯示裝置用的玻璃基板(以下簡稱為基板)實(shí)施規(guī)定處理的基板處理裝置及其控制裝置。

背景技術(shù)

當(dāng)前，作為這種裝置，可以舉出下述裝置，即，在由具有用于對(duì)基板實(shí)施處理的多個(gè)處理部的基板處理裝置對(duì)多個(gè)批次進(jìn)行處理時(shí)，控制部根據(jù)包括多個(gè)處理工序在內(nèi)的工藝處方，為了由各處理部依次處理各個(gè)批次而確定各批次的處理順序，按照其時(shí)序表傳送各批次并依次進(jìn)行處理(例如參照專利文獻(xiàn)1)。

這種基板處理裝置，由于在實(shí)際開始對(duì)批次的處理之前，已經(jīng)確定了用哪個(gè)處理部在哪個(gè)時(shí)刻處理哪個(gè)批次，因而可以高效地配置批次，提高基板處理裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率。

專利文獻(xiàn)1：特開2002-341923號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

但是，具有這種結(jié)構(gòu)的現(xiàn)有例子的情況下，存在下述問題。

也就是說，現(xiàn)有裝置在某個(gè)處理工序中使用的處理部發(fā)生異常的情況下，要使使用該處理部的預(yù)定的所有批次的處理全部停止。因此，具有在一個(gè)處理部中發(fā)生異常的情況下，基板處理裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率下降的問題。

本實(shí)用新型正是鑒于以上問題而提出的，其目的在于提供一種基板處理裝置及其控制裝置，其通過允許批次向替代處理部的調(diào)換，即使在處理部發(fā)生異常的情況下，也可以防止運(yùn)轉(zhuǎn)率下降。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用下述構(gòu)成。

也就是說，技術(shù)方案1所述的實(shí)用新型，是一種基板處理裝置，其具有：多個(gè)處理部，它們用于對(duì)基板進(jìn)行處理；以及控制部，其處理多個(gè)批次時(shí)，在根據(jù)包括多個(gè)處理工序的工藝處方?jīng)Q定時(shí)序表后執(zhí)行處理，該時(shí)序表規(guī)定用于由各個(gè)處理部依次處理各批次的各批次處理順序，其特征在于，前述處理部具有：優(yōu)先處理部，其為了處理一個(gè)處理工序而優(yōu)先使用；以及與前述優(yōu)先處理部不同的替代處理部，其可以實(shí)施與前述處理部相同的處理，在處理工序中指定的優(yōu)先處理部發(fā)生異常的情況下，對(duì)于按照指定了與發(fā)生異常的優(yōu)先處理部對(duì)應(yīng)的替代處理部的工藝處方進(jìn)行處理的批次，前述控制部變更時(shí)序表，以由前述替代處理部進(jìn)行處理，同時(shí)前述控制部按照該變更后的時(shí)序表繼續(xù)執(zhí)行該批次的處理。

根據(jù)技術(shù)方案1所述的實(shí)用新型，對(duì)于按照對(duì)發(fā)生異常的優(yōu)先處理部指定替代處理部的工藝處方進(jìn)行處理的批次，以調(diào)換到替代處理部進(jìn)行批次處理的方式，控制部變更時(shí)序表，同時(shí)控制部按照該變更后的時(shí)序表繼續(xù)執(zhí)行該批次的處理。因此，由于即使處理部發(fā)生異常，也不必停止所有批次的處理，因而可以防止運(yùn)轉(zhuǎn)率下降。

此外，在本實(shí)用新型中，優(yōu)選在被一個(gè)處理工序中指定的優(yōu)先處理部發(fā)生異常情況下，對(duì)于按照僅指定了發(fā)生異常的優(yōu)先處理部的工藝處方進(jìn)行處理的批次，前述控制部進(jìn)行使前述批次待命的處理，同時(shí)在前述優(yōu)先處理部可以使用的時(shí)刻，在對(duì)該批次重新安排時(shí)序之后，重新開始該批次的處理(技術(shù)方案2)。對(duì)于按照僅指定發(fā)生異常的優(yōu)先處理部的工藝處方進(jìn)行處理的批次，控制部使該批次待命，同時(shí)，在優(yōu)先處理部的異常解除的時(shí)刻，對(duì)于該批次在生成時(shí)序表后重新開始處理。因此，可以防止在工藝處方中僅指定優(yōu)先處理部的批次的處理中出現(xiàn)問題。

此外，在本實(shí)用新型中，優(yōu)選前述優(yōu)先處理部是第1藥液處理部，前述替代處理部是第2藥液處理部(技術(shù)方案3)。為了提高處理效率，基板處理裝置如由藥液進(jìn)行處理的第1藥液處理部和具有同樣構(gòu)成的第2藥液處理部這樣成雙配置同樣的處理部。由于兩個(gè)藥液處理部可以以分別進(jìn)行同樣的處理方式設(shè)定液種及溫度等條件，因而如果預(yù)先設(shè)定相同條件，則可以將一方作為優(yōu)先使用的優(yōu)先處理部，而將另一方作設(shè)定為替代處理部。

此外，在本實(shí)用新型中，優(yōu)選前述優(yōu)先處理部是第1純水清洗處理部，前述替代處理部是第2純水清洗處理部(技術(shù)方案4)。為了提高處理效率，基板處理裝置如由純水進(jìn)行清洗處理的第1純水清洗處理部和具有同樣構(gòu)成的第2純水處理部這樣，成雙配置同樣的處理部。由于兩個(gè)純水處理部可以以分別進(jìn)行同樣處理的方式設(shè)定純水溫度及流量等條件，因而如果預(yù)先設(shè)定相同條件，則可以將一方作為優(yōu)先使用的優(yōu)先處理部，而將另一方設(shè)定為替代處理部。

技術(shù)方案5所述的實(shí)用新型是一種基板處理裝置，其對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，具有：第1處理部；不同于前述第1處理部的第2處理部，其可以實(shí)施與前述第1處理部相同的處理；存儲(chǔ)部，其存儲(chǔ)包括多個(gè)處理工序的工藝處方；以及控制部，其對(duì)應(yīng)于前述工藝處方生成時(shí)序表，在前述時(shí)序表中將前述第1處理部和前述第2處理部指定為可變更并且前述第1處理部發(fā)生異常的情況下，通過調(diào)換前述第1處理部和第2處理部來變更前述時(shí)序表，同時(shí)按照調(diào)換后的情況下的時(shí)序表發(fā)出處理指令。