[實用新型]基板處理裝置及其控制裝置

無效

• 申請號: 200720140104.8
• 申請日: 2007-03-27
• 公開（公告）號: CN201032627Y
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 山本真弘
• 申請（專利權）人: 大日本網目版制造株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/67;H01L21/306;H01L21/02;B08B3/00;G05B19/418
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 何立波;張天舒

1.一種基板處理裝置，其具有：多個處理部，它們用于對基板進行處理；以及控制部，其處理多個批次時，在根據包括多個處理工序的工藝處方決定時序表后執行處理，該時序表規定用于由各個處理部依次處理各批次的各批次處理順序，其特征在于，

前述處理部具有：優先處理部，其為了處理一個處理工序而優先使用；以及與前述優先處理部不同的替代處理部，其可以實施與前述處理部相同的處理，

在處理工序中指定的優先處理部發生異常的情況下，對于按照指定了與發生異常的優先處理部對應的替代處理部的工藝處方進行處理的批次，前述控制部變更時序表，以由前述替代處理部進行處理，同時前述控制部按照該變更后的時序表繼續執行該批次的處理。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

在一個處理工序中指定的優先處理部發生異常情況下，對于按照僅指定了發生異常的優先處理部的工藝處方進行處理的批次，前述控制部進行使前述批次待命的處理，同時在前述優先處理部可以使用的時刻，在對該批次重新安排時序之后，重新開始該批次的處理。

3.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

前述優先處理部是第1藥液處理部，前述替代處理部是第2藥液處理部。

4.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

前述優先處理部是第1純水清洗處理部，前述替代處理部是第2純水清洗處理部。

5.一種基板處理裝置，其對基板進行處理，其特征在于，具有：

第1處理部；

不同于前述第1處理部的第2處理部，其可以實施與前述第1處理部相同的處理；

存儲部，其存儲包括多個處理工序的工藝處方；以及

控制部，其對應于前述工藝處方生成時序表，在前述時序表中將前述第1處理部和前述第2處理部指定為可變更并且前述第1處理部發生異常的情況下，通過調換前述第1處理部和第2處理部來變更前述時序表，同時按照調換后的情況下的時序表發出處理指令。

6.一種基板處理裝置的控制裝置，其具有：第1處理部；以及不同于前述第1處理部的第2處理部，其可以執行與前述第1處理部相同的處理，其特征在于，具有：

時序安排部，其對應于包括多個處理工序的工藝處方，生成時序表；

間歇停止狀態管理部，其在前述時序表中將前述第1處理部和前述第2處理部指定為可變更并且前述第1處理部發生異常的情況下，通過調換前述第1處理部和第2處理部來變更前述時序表；以及

處理執行指示部，其按照調換后的情況下的時序表發出處理指令。