[實用新型]一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200720108329.5 | 申請日： | 2007-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN201077033Y | 公開（公告）日： | 2008-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉培東;張世波 | 申請（專利權(quán)）人： | 劉培東;張世波 |
| 主分類號： | B24D13/14 | 分類號： | B24D13/14 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 張法高 |
| 地址： | 310013浙江省杭州市玉古路1*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 硅片 拋光 整體 陶瓷 | ||
1.一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于具有板式陶瓷盤(1)，在板式陶瓷盤(1)上設(shè)有陶瓷模板(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的陶瓷模板(2)孔內(nèi)邊緣設(shè)有塑料、橡膠或樹脂材料的防護(hù)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的陶瓷模板(2)孔內(nèi)的板式陶瓷盤(1)上設(shè)有小孔
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的板式陶瓷盤(1)與陶瓷模板(2)用燒結(jié)或平面陶瓷滾珠軸承固定，做成固定式。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的板式陶瓷盤(1)與陶瓷模板(2)用螺釘和螺栓固定，做成可拆卸式。
6.一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于具有板式陶瓷盤(1)，在板式陶瓷盤(1)上設(shè)有陶瓷凹模(3)
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的陶瓷凹模(3)內(nèi)邊緣設(shè)有塑料、橡膠或樹脂材料的防護(hù)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于硅片無蠟拋光的整體式拋光陶瓷盤，其特征在于所述的陶瓷凹模(3)底部設(shè)有小孔。
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