[實用新型]承載盤有效
| 申請號： | 200720092222.6 | 申請日： | 2007-10-18 |
| 公開（公告）號： | CN201112364Y | 公開（公告）日： | 2008-09-10 |
| 發明（設計）人： | 蔡鳴 | 申請（專利權）人： | 鄭州華碩精密陶瓷有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/673 | 分類號： | H01L21/673 |
| 代理公司： | 鄭州異開專利事務所 | 代理人： | 韓華 |
| 地址： | 450007河南省鄭*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 承載 | ||
【權利要求書】：
1、一種承載盤，它包括圓盤體(1)，沿軸向開設在所述圓盤體(1)外周面上的V形槽(2)，其特征在于：所述圓盤體(1)由碳化硅陶瓷材料制成；在圓盤體(1)的盤面上沿軸向貫穿盤面開設有多個微孔(3)；所述微孔(3)的孔徑≤0.02mm，孔隙率≥30％。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
