[實用新型]一種晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具有效
| 申請號: | 200720073816.2 | 申請日: | 2007-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN201096669Y | 公開(公告)日: | 2008-08-06 |
| 發明(設計)人: | 肖建軍;宋碧波;張士仁;呂秋玲 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28;G01N23/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 2012*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 正面 污染物 檢測 樣品 制備 | ||
技術領域
本實用新型涉及檢測樣品制備治具,尤其涉及一種晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具。
背景技術
在檢驗進料晶圓或通過檢測晶圓來檢測線上機臺的運行狀況時,對晶圓正面污染物(特別是金屬雜質)的檢測是主要的檢測項目。目前晶圓表面污染物的檢測方法通常包括全反射射線X熒光(TXRF)和水汽相位分解等離子體質譜(VPD-ICP-MS)分析法,其中VPD-ICP-MS分析法以其偵測極限極低(可達1×1018個每平方厘米)的優點而成為常用的污染物檢測方法。該方法是利用制樣溶液(通常為氫氟酸、硝酸和雙氧水的混合液)將晶圓正面的污染物溶解后,再將溶解所得溶液導入ICP-MS設備中做定性或定量分析。
現市面上已有全自動的VPD-ICP-MS設備,其只需將晶圓設置在其中,即可完成晶圓表面污染物的分析檢測,其使用極其方便,但因價格太高,推廣使用還需時日。所以仍有很多半導體制造企業通過人工方式來進行晶圓正面污染物的檢測樣品制備,然后再將樣品放置在ICP-MS設備中進行分析,該人工方式制備檢測樣品的詳細過程為:先將晶圓放置在晶圓盒中,然后用吸管向晶圓正面滴制樣溶液,之后再使用吸管將溶解有污染物的溶液轉移到收集器皿中。上述檢測樣品的制備方式存在著過程繁瑣、操作不便、精度不高和操作危險等諸多缺點。
因此,如何提供一種晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具以便于制樣者高效安全且精準的進行檢測樣品的制備,已成為業界亟待解決的技術問題。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具,通過該治具可提高制樣的便利性、精準性和安全性。
本實用新型的目的是這樣實現的:一種晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具,該晶圓邊緣具有一預設角度范圍的導角,該治具包括一放置晶圓的本體、一罩設在本體頂部的罩體和一設置在罩體頂部用于向晶圓正面噴灑制樣溶液或水的進樣噴頭,該本體為第一和第二平面截一倒立椎面所得,該錐面的錐角等于晶圓的導角,該第一和第二平面與錐線所成的角分別為一直角和一預設銳角,該第一和第二平面在倒立錐面上形成了第一截圓和第二截圓,該第二截圓為直接與操作臺接觸的橢圓且其低于第一截圓,該晶圓的直徑大于第二截圓的短軸且小于第一截圓的直徑,該本體在放置晶圓且距操作臺最近的位置上設置有一供制樣溶液流出本體的開口。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該制備治具還包括用于收集從開口流出本體的溶液的收集器皿,該收集器皿放置在本體外溶液恰從開口流出的位置。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該預設角度范圍為20至22度。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該預設銳角為75度。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該污染物為金屬污染物。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該制樣溶液為氫氟酸、硝酸和雙氧水的混合溶液。
在上述的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具中,該晶圓放置在本體中時,該晶圓正面朝上。
與現有技術中使用吸管和晶圓盒來制備檢測樣品所存在的不方便、不安全和不準確的問題相比,本實用新型的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具依照晶圓的形狀設置了可方便將晶圓放置在其中的錐面本體,當該晶圓正面朝上設置在該錐面本體中且該錐面本體放置在操作臺上時,該晶圓和操作臺間具有一傾角,之后再將罩體罩在本體上,然后使用進樣噴頭向晶圓正面噴灑制樣溶液,該制樣溶液在與晶圓正面的污染物反應后,且在重力的作用下,從本體上的開口中流出本體并注入設置在本體外的收集器皿中,之后再通過進樣噴頭噴涂水以將所用制樣溶液全部收集至收集器皿中,如此可大大方便制樣者,另外可提高樣品制備的可靠性和安全性。
附圖說明
本實用新型的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具由以下的實施例及附圖給出。
圖1為本實用新型的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具的組成結構示意圖;
圖2為形成圖1中的本體的立體示意圖;
圖3為本實用新型中的本體的正視圖。
具體實施方式
以下將對本實用新型的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具作進一步的詳細描述。
本實用新型的晶圓正面污染物的檢測樣品制備治具用于在通過等離子體質譜(ICP-MS)儀檢測晶圓正面污染物前供制樣者在其上制備檢測樣品,其中,所述晶圓邊緣具有一預設角度范圍的導角,所述預設角度范圍為20至22度。
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